濕式研磨與干法研磨的區(qū)別

濕法研磨與干法研磨的區(qū)別 干法研磨指進(jìn)行研磨作業(yè)時(shí)物料的含水量不超過4%，而濕法研磨則是將原料懸浮于載體液流中進(jìn)行研磨，適當(dāng)添加分散劑等助劑幫助研磨進(jìn)行。濕法研磨機(jī)時(shí)物料含水量超過50%時(shí)，可克服粉塵飛揚(yáng)問題。在食品加工上，研磨的物料經(jīng)常作為浸出的預(yù)備操作，使組分易于溶出，故頗適于濕式研磨法。但濕法操作一般消耗能量較干法操作的大，同時(shí)設(shè)備的磨損也較嚴(yán)重。機(jī)械干法研磨較難獲取亞微米級(jí)別的粉體，化學(xué)制粉成本高，因此濕法研磨成為制備超細(xì)粉體的一個(gè)重要手段。從實(shí)際應(yīng)用來(lái)看，這兩者之間并沒有的優(yōu)劣之分，要根據(jù)實(shí)際的產(chǎn)品特點(diǎn)及經(jīng)濟(jì)效益來(lái)選取適當(dāng)?shù)奶幚矸椒ā?/p>

時(shí)間對(duì)平面拋光研磨機(jī)的拋光液PH的影響分析

時(shí)間對(duì)平面拋光研磨機(jī)的拋光液PH的影響分析 拋光液PH值是拋光元件表面粗糙度的重要影響因素，他是拋光元件化學(xué)拋光的重要組成部分。事實(shí)證明，當(dāng)拋光壓力、溫度等外界因素相匹配時(shí)，平面拋光研磨機(jī)拋光時(shí)的PH值應(yīng)控制在11.25左右，這時(shí)候化學(xué)拋光和機(jī)械拋光的作用相平衡，拋光效果! 拋光液中PH值參數(shù)是衡量一種液體性能是否穩(wěn)定的重要因素。很多拋光液使用者并沒有清楚的意識(shí)到這一點(diǎn)，他們往往對(duì)拋光液內(nèi)的粒度分布，粒徑大小，均勻性，配比等感興趣，而忽略了一個(gè)重要的因素-PH值對(duì)整個(gè)液體狀的的影響。 在化學(xué)性質(zhì)的液體中，PH值的大小影響著液體性能的穩(wěn)定。拋光液一般在微酸或者微堿的時(shí)候，對(duì)平面拋光研磨機(jī)工件的拋光效果，所能達(dá)到的表面粗超度。當(dāng)PH值偏堿性時(shí)，粗超度變大。所以在配置這種液體的時(shí)候，我們不能忽略這一點(diǎn)，一定要反復(fù)試驗(yàn)，取得一個(gè)穩(wěn)定值。 拋光液的PH值是變化的。這是因?yàn)閽伖庖簳?huì)隨著時(shí)間的變化而變化。由于某些工件在拋光時(shí)產(chǎn)生水解作用,在實(shí)際拋光過程中拋光液的pH值會(huì)隨拋光時(shí)間不斷變化。在每次添加拋光液后,pH值的變化為劇烈。因此一開始先每隔15s測(cè)量一次,之后每隔1min測(cè)量一次,從而可得出不同初始pH值的拋光液在拋光過程中pH值的變化規(guī)律。在對(duì)不含有堿金屬氧化物,不會(huì)與水產(chǎn)生水解反應(yīng),在平面拋光研磨機(jī)的拋光過程中拋光液的pH值基本保持不變,所以其拋光方法也不同。

平面拋光機(jī)與平面研磨機(jī)的特點(diǎn)有什么不同

平面拋光機(jī)與平面研磨機(jī)的特點(diǎn)有什么不同 拋光和研磨是同一種機(jī)械運(yùn)動(dòng)，基本工作原理大致一樣。拋光則分為精拋，粗拋，研磨分為精磨，粗磨。不過對(duì)于表面光潔度而言，拋光的表面質(zhì)量比研磨確實(shí)要更高一些。工件表面的平面度，平行度，粗糙度都是根據(jù)客戶精度要求生產(chǎn)制作，具體的要看工件表面本身的質(zhì)量，以及客戶要求達(dá)到的質(zhì)量。 平面研磨機(jī)的主要類型有圓盤式研磨機(jī)、轉(zhuǎn)軸式研磨機(jī)和各種專用研磨機(jī)。研磨盤平面度是研磨的基準(zhǔn)，是得到精密工件平面的保證。在研磨的過程中，研磨盤的平面度會(huì)下降，主要原因研磨盤的內(nèi)外線速度不同，磨損不一致造成。 研磨盤需定期修整平面。修整的方法有兩種:1是采用基準(zhǔn)平面電鍍金剛石修整輪來(lái)修面，由于電鍍金剛石修整輪基本不磨損，可得到較高的平面度。2是通過修整機(jī)構(gòu)修面后，也可獲得較好的平面度，這種修整的原理與車床原理一致，研磨盤旋轉(zhuǎn)，一個(gè)可前后運(yùn)動(dòng)的刀在刀桿的帶動(dòng)對(duì)研磨進(jìn)行切削獲得平面。 研磨拋光機(jī)采用間隔式自動(dòng)噴液裝置，可自由設(shè)定噴液間隔時(shí)間。工件加壓采用氣缸加壓的方式，壓力可調(diào);拋光后工件表面光亮度高、無(wú)劃傷、無(wú)料紋、無(wú)麻點(diǎn)、不塌邊、平面度高等特點(diǎn)。拋光后工件表面粗糙度可達(dá)到Ra0.0002;平面度可控制在±0.002mm范圍內(nèi)。采用PLC程控系統(tǒng)，觸摸屏操作面板，研磨盤轉(zhuǎn)速與定時(shí)可直接在觸摸屏上輸入。適應(yīng)對(duì)工件的平面進(jìn)行拋光處理。