一般來(lái)說(shuō)，鎘是鋼的陰極性鍍層，在海洋性較強(qiáng)和較為高溫的大氣中則會(huì)陽(yáng)極性鍍層。用途：廣泛應(yīng)用于航空、航海、電子工業(yè)，甚至在強(qiáng)海水或大氣腐蝕的環(huán)境中。通常用作拋光、磷化和油漆底漆，但jue不能用作食品和飲料用具。3.鍍鉻特點(diǎn)：鉻層附著力強(qiáng)、硬度高、耐磨性好、反光性強(qiáng)、耐熱性高。然而，由于它的高硬度，它很脆并且容易脫落，特別是當(dāng)受到?jīng)_擊載荷時(shí)。鉻易于在空氣中形成鈍化膜，從而改變鉻的電位。因此，鉻和鐵成為陰極性鍍層。用途：多層電鍍通常用于鋼鐵表面，以達(dá)到防銹或裝飾效果。

PVD鍍膜（離子鍍膜）技術(shù)的主要特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì)：和真空蒸發(fā)鍍膜真空濺射鍍膜相比較，PVD離子鍍膜具有如下優(yōu)點(diǎn)：1．膜層與工件表面的結(jié)合力強(qiáng)，更加持久和耐磨2．離子的繞射性能好，能夠鍍形狀復(fù)雜的工件3．膜層沉積速率快，生產(chǎn)效lv高4．可鍍膜層種類(lèi)廣泛5．膜層性能穩(wěn)定、安全性高（獲得FDA認(rèn)證，可植入人體）PVD是英文PhysicalVaporDepsition的縮寫(xiě)，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。PVD鍍膜和PVD鍍膜機(jī)：PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術(shù)主要分為三類(lèi)，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。

PVD涂層（鍍膜）技術(shù)原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)電離，在電場(chǎng)的作用下，使被蒸發(fā)物質(zhì)或其他反應(yīng)物沉積在工件上。涂層性質(zhì)（如硬度、結(jié)構(gòu)、耐化學(xué)和耐溫性、結(jié)合力）可以被jing確地控制。（2）工藝特點(diǎn)：在PVD工藝中的高純度固體涂層材料（金屬如鈦、鉻和鋁）既可通過(guò)加熱或通過(guò)離子轟擊（濺射）來(lái)得到蒸發(fā)。同時(shí)添加反應(yīng)性氣體（例如氮?dú)饣蚝細(xì)怏w）；之后形成含金屬蒸氣的復(fù)合物，并以高度粘附性薄涂層沉積在工具或零部件上。以恒定速度旋轉(zhuǎn)固定在幾個(gè)軸上的零件可獲得均勻的涂層厚度。