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脈沖激光沉積裝置公司常用指南【沈陽鵬程】

發(fā)布時間:2020-12-30 17:48  

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主要用途:  

用于制備超導(dǎo)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、超硬薄膜等。適用于各大專院校、科研院所進行薄膜材料的科研與小批量制備。  

系統(tǒng)組成:  

主要由濺射真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。