在芯片制造領(lǐng)域，光刻機和蝕刻機一直是芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵。在業(yè)界有個形象的比喻，光刻機是芯片制造的魂，蝕刻機是芯片制造的魄，如果要想制造的芯片，這兩個東西都必須。

而在光刻機方面，與世界的7nm制程都相去甚遠(yuǎn)。不管三星、英特爾還是臺積電在芯片制程工藝方面如何去競爭，但ASML終究是背后霸主，贏家，因為他們誰都離不開他的EUV光刻機。而國產(chǎn)光刻機還在路上，目前我國已經(jīng)能夠使用365納米波長的光生產(chǎn)22納米工藝的芯片，這在全世界尚無先例，它也被稱為世界上首臺分辨力的紫外超分辨光刻裝備。這也意味著國產(chǎn)光刻機可以使用低成本光源，實現(xiàn)了更高分辨力的光刻。

下料

1、選板材

我司所用薄金屬原材料均為韓國進(jìn)口65黃銅板材，材料到廠后，由專業(yè)人員進(jìn)行精選，要求所用板材表面光亮，色澤圓潤飽滿無瑕疵，次品板材退回廠家。

2、剪裁及修邊

根據(jù)設(shè)計好的尺寸，選好的銅材每邊都放幾毫米的余量，做上標(biāo)記點，進(jìn)行剪裁， 剪裁好的銅材四邊往往有細(xì)微毛刺，用銼刀打磨干凈，銼完后用手摸，直至邊緣光滑即可。

3、清除油污

把銅材置于超聲波儀器進(jìn)行清洗，清洗后再用清水沖洗， 再用專業(yè)烘干機對銅材進(jìn)行烘干，要求至表面洗干凈無油漬、不留下水漬。

     其次蝕刻機的均勻性對蝕刻產(chǎn)品影響也比較大。蝕刻機的均勻要可以調(diào)節(jié)，那么就要讓噴淋管能實現(xiàn)獨立壓力控制，這樣根據(jù)不同尺寸的產(chǎn)品對壓力進(jìn)行微調(diào)（大尺寸的板水池效應(yīng)大），從而得到一個較佳的均勻性。通常設(shè)備精度好不好，就是通過蝕刻均勻性好不好來衡量的。

      由于蝕刻是一個放熱 的化學(xué)反應(yīng)，所以完善冷卻系統(tǒng)是很有必要的，而且冷卻管表面積需要符合滿載的時的放熱量的及時冷卻，溫度不宜超過2度，超過2度以上還不能冷卻到設(shè)定溫度，說明設(shè)計冷卻盤的面積過小，滿載生產(chǎn)時會出現(xiàn)超溫導(dǎo)致必須停止生產(chǎn)。

產(chǎn)品特點

1.激光蝕刻為干式蝕刻，加工制程簡單，所有加工均由軟件自動控制，產(chǎn)品一致性高，良率高達(dá)99%，無耗材，環(huán)保，可靠穩(wěn)定。

2.CCD相機自動定位，加工精度高。

3.設(shè)備操作簡單，圖檔更新方便，制程縮短，稼動率高。

4.設(shè)備控制軟件能夠?qū)崿F(xiàn)自動圖檔分割，移動拼接加工，拼接精度可達(dá)±3μm

5.耗電量省，操作人員少，無污染，生產(chǎn)成本低。