由于派瑞林涂膜是在常溫下以帶有雙游離基活性單體沉積的，先是單體沉落附著在印制板組件基體上，然后才是各單體的活性鍵的鍵合，從而連成一片，形成一個(gè)整體膜層。通過(guò)長(zhǎng)期使用，我們發(fā)現(xiàn)，涂敷層的各點(diǎn)就是一個(gè)獨(dú)立的保護(hù)點(diǎn)，當(dāng)局部涂層損壞時(shí)，不會(huì)嚴(yán)重地影響其周邊區(qū)域涂層的防護(hù)性，同時(shí)涂敷層的各點(diǎn)又通過(guò)化學(xué)鍵連接一起，形成整體，更增強(qiáng)了其防護(hù)性能。

       常用永磁體有釹鐵硼磁體。即磁體是通過(guò)粉末冶金工藝燒結(jié)成型的產(chǎn)品，因其中的富釹相、釹鐵硼主體及邊界很容易形成晶間腐蝕，并且稀土元素釹性質(zhì)活潑，因而使得整個(gè)釹鐵硼材料的耐蝕性極差，在潮濕環(huán)境下極易氧化生銹腐蝕。

       目前，常見(jiàn)的釹鐵硼磁體的防腐方法主要有電鍍、磷化、電泳等。但這些常規(guī)電鍍方法普遍存在各種各樣的問(wèn)題，例如工藝穩(wěn)定性不好，適用范圍較窄，防腐能力不足，設(shè)備投資大，運(yùn)行成本高等問(wèn)題。

1、派瑞林真空鍍膜設(shè)備有效應(yīng)用于磁性材料領(lǐng)域，派瑞林的制備工藝和優(yōu)異性能相結(jié)合，使它能對(duì)小型超小型磁材進(jìn)行無(wú)薄弱點(diǎn)全涂敷的磁材可浸鹽酸10天以上不腐蝕，目前國(guó)際上小型或者超小型磁材，幾乎都采用派瑞林鍍膜工藝作絕緣和防護(hù)涂層。

2、派瑞林真空鍍膜設(shè)備有效應(yīng)用于印制電路組件和元器件領(lǐng)域，鍍膜材料通過(guò)派瑞林真空鍍膜設(shè)備使得活性的對(duì)二雙游離基小分子氣在印制電路組件表面沉積聚合完成。氣態(tài)的小分子能滲透到包括貼裝件下面任何一個(gè)細(xì)小縫隙的基材上沉積，形成分子量約50萬(wàn)的高純聚合物。

3、派瑞林真空鍍膜設(shè)備有效應(yīng)用于微電子集成電路領(lǐng)域，派瑞林的真空氣相沉積工藝不僅和微電子集成電路制作工藝相似，而且所制備的派瑞林涂層介電常數(shù)也低，還能用微電子加工工藝進(jìn)行刻蝕制圖，進(jìn)行再金屬化，因此派瑞林（Parylene）不僅可用作防護(hù)材料，而且也能作為結(jié)構(gòu)層中的介電材料和掩膜材料使用，經(jīng)派瑞林（Parylene）涂敷過(guò)的集成電路芯片，其25um細(xì)直徑連接線，連接強(qiáng)度可提高5-10倍。