離子束刻蝕速率

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刻蝕速率是指單位時間內離子從材料表面刻蝕去除的材料厚度，單位通常為A/minnm/min.刻蝕速率與諸多因素有關，包括離子能量、束流密度、離子入射方向、材料溫度及成分、氣體與材料化學反應狀態(tài)及速率、刻蝕生成物、物理與化學功能強度配比、材料種類、電子中和程度等。

離子束刻蝕機

表面拋光

離子束能完成機械加工中的后一道工序一-精拋光，以消除機械加工所產生的刻痕和表面應力。加工時只要嚴格選擇濺射參數(入射離子能量、離子質量、離子入射角、樣品表面溫度等)，光學零件就可以獲得較佳的表面質量，且散射光較小。離子束拋光激光棒和光學元件的表面，表面可以達到較高的均勻和一致性，而且元件本身在工藝過程中也不會被污染。

離子束

1.蝕刻加工：離子蝕刻用于加工陀螺儀空氣軸承和動壓馬達上的溝槽，分辨率高，精度、重復一致性好。離子束蝕刻應用的另一個方面是蝕刻圖形，如集成電路、光電器件和光集成器件等征電子學構件。太陽能電池表面具有非反射紋理表面。離子束蝕刻還應用于減薄材料，制作穿透式電子顯微鏡試片。2.離子束鍍膜加工：離子束鍍膜加工有濺射沉積和離子鍍兩種形式。離子鍍可鍍材料范圍廣泛，不論金屬、非金屬表面上均可鍍制金屬或非金屬薄膜，各種合金、化合物、或某些合成材料、半導體材料、高熔點材料亦均可鍍覆。