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發(fā)布時(shí)間:2020-08-04 07:24  

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高溫束源爐的特點(diǎn)

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溫度控制和均勻的基于SCR 功率輸出電源實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確的沉積速率控制,并確保高質(zhì)量的,均勻的膜。

◆ 使用PID 控制器進(jìn)行溫度控制,控制在±1℃

◆ 自動(dòng)調(diào)節(jié)模式

◆ 可調(diào)節(jié)報(bào)警條件

◆ 速率控制輸入與沉積控制相兼容




加熱樣品臺(tái)的設(shè)計(jì)原理

設(shè)計(jì)原理為:將樣品槽設(shè)置在中空腔中,中空腔中通入熱空氣對(duì)樣品槽進(jìn)行加熱,從而對(duì)樣品進(jìn)行傳熱加熱,而隨著熱空氣裝置不斷向中空腔中通入空氣,中空腔中的壓力會(huì)增大,從而通過泄壓口向氣管排氣,排出的氣體會(huì)通過氣管到達(dá)多孔頭,從而對(duì)樣品容器通入熱空氣,一方面熱空氣對(duì)樣品容器中的樣品進(jìn)行加熱,另一方面還能起到空氣攪拌的作用。改進(jìn)后的可旋轉(zhuǎn)電子束加熱樣品臺(tái)結(jié)構(gòu)簡單,操作方便,工作穩(wěn)定可靠,加熱室密封性好,樣品得到旋轉(zhuǎn)加熱,受熱均勻,有效提高設(shè)備加熱效率。

熱空氣裝置包括空壓機(jī)、加熱箱和管道,空壓機(jī)通過所述管道與所述加熱箱連通,加熱箱通過管道與所述中空腔連通,空壓機(jī)產(chǎn)生的空氣通過管道進(jìn)入到加熱箱中進(jìn)行加熱,并經(jīng)管道通入到中空腔中。

如需了解更多加熱樣品臺(tái)的相關(guān)信息,歡迎關(guān)注沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司網(wǎng)站或撥打圖片上的熱點(diǎn)電話,我司會(huì)為您提供專業(yè)、周到的服務(wù)。



濺射靶材的種類

濺射靶材的種類較多,即使相同材質(zhì)的濺射靶材也有不同的規(guī)格。按照不同的分類方法,能夠?qū)R射靶材分為不同的類別,主要分類情況如下:

按形狀分類:長靶、方靶、圓靶

按化學(xué)成份分類:金屬靶材(純金屬鋁、鈦、銅、鉭等)、合金靶材(鎳鉻合金、鎳鈷合金等)、陶瓷化合物靶材(氧化物、硅化物、碳化物、硫化物等)

按應(yīng)用領(lǐng)域分類:半導(dǎo)體芯片靶材、平面顯示器靶材、太陽能電池靶材、信息存儲(chǔ)靶材、I具改性靶材、電子器件靶材、其他靶材。

表面原子發(fā)生動(dòng)能交換,使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面,被轟擊的固體 是用濺射法沉積薄膜的原材料,稱為濺射靶材。

沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司——專業(yè)生產(chǎn)、銷售磁控靶材,我們公司堅(jiān)持用戶為上帝,想用戶之所想,急用戶之所急,以誠為本,講求信譽(yù),以產(chǎn)品求發(fā)展,以質(zhì)量求生存,我們熱誠地歡迎各位同仁合作共創(chuàng)輝煌。



靶材鍍膜前的清潔

在進(jìn)行鍍膜前都必須將基片進(jìn)行清潔,對(duì)于在線鍍膜來說,這是很小的事情,但對(duì)離線鍍膜來說卻相當(dāng)重要,而且操作起來也比較困難,對(duì)于大面積的鍍膜來說,將玻璃基片完全清潔干凈是不可能的,因此,如何達(dá)到鍍膜所必須要求的潔凈程度就變得非常重要。要保持清潔程度足夠高,如果清潔程度不夠,膜層容易老化,甚至脫膜等現(xiàn)象。通過設(shè)置緩沖室和溫度傳感器,能夠?qū)崟r(shí)、準(zhǔn)確的監(jiān)測加熱電極流出的冷卻水的溫度,并及時(shí)反饋,為熔銅爐的正常工作提供了安全保障。不同用途,不同加工工藝的膜層對(duì)清潔程度要求是不一樣的,對(duì)于目前我司生產(chǎn)的玻璃來說, Low-E玻璃要求的玻璃潔凈度不如熱反射玻璃高。目前要為鍍膜準(zhǔn)備大面積的鍍膜玻璃基片,主要采用的是一 種濕式清潔技術(shù),這種技術(shù)包括三部分:

1.松動(dòng)玻璃表面的雜質(zhì)

2.去除已經(jīng)松動(dòng)的、分離的雜質(zhì)

3.干燥已經(jīng)清潔的玻璃表面

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