前階段有個(gè)客戶涂上感光油墨曝光后，上面再噴上一層油漆，導(dǎo)致氫氧化na水溶液溶液無法很好的滲透到油墨與金屬標(biāo)牌的連接處，從而沒辦法快速去墨，建議加高溫度，以及加長浸泡的時(shí)間之后也可以很好的去掉感光蝕刻油墨。

顯影要充分。顯影是與下道工序直接相連的重要工序，其質(zhì)量的好與壞是整個(gè)圖形轉(zhuǎn)移成功與否的重要標(biāo)志。滲鍍：所謂滲鍍，即是由于干膜與覆銅箔板表面粘結(jié)不牢，使鍍液深入，而造成"負(fù)相"部分鍍層變厚及鍍好的錫鉛抗蝕層，給蝕刻帶來問題。

如何通過曝光顯影去實(shí)現(xiàn)蝕刻的?譬如說做PCB板，需要用到蝕刻。大家看我這樣的理解對不對，噴涂---曝光---顯影---固化---蝕刻噴的感光油墨，在曝光時(shí)候，用非林片把不用蝕刻的地方遮蔽起來在曝光過程中，需要蝕刻的部分就被曝光了，然后經(jīng)顯影液清洗后露出基材經(jīng)過固化后。

1、蝕刻：利用蝕刻液與銅層反應(yīng)，蝕去線路板上不需要的銅，得到所要求的線路。

2、曝光：經(jīng)光源作用將原始底片上的圖像轉(zhuǎn)移到感光底板(即PCB)上。

蝕刻速度決定了蝕刻加工周期的長短，蝕刻速度越快，蝕刻加工周期越短，生產(chǎn)效率越高，反之生產(chǎn)效率較低。但是，蝕刻速度也并非越快越好：

對于整體蝕刻或成型的化學(xué)蝕刻加工及鏤空圖文的蝕刻往往都是兩個(gè)面同時(shí)進(jìn)行。這種雙面蝕刻加工的速度比只在一個(gè)面進(jìn)行的蝕刻加工的速度快1倍，在金屬材料一定的情況下，影響蝕刻加工速度的因素很多，其中主要的是蝕刻劑的種類、濃度及蝕刻溫度。如果蝕刻劑的濃度及蝕刻條件一定，材料的特性及熱處理狀態(tài)對蝕刻加工的速度同樣有很大的影響。