電腐蝕機(jī)腐蝕的特性    1、工藝復(fù)雜要求較高，需對(duì)位密貼工件。    2、電蝕刻出來的邊角不夠平滑有毛刺麻點(diǎn)    3、深度達(dá)不到也不好掌控深淺。    4、質(zhì)量不可控，只有完全成型了之后才能判斷是否為良品，報(bào)廢率高。    5、表面附著一層黑色物質(zhì)難以清理，影響后期上色。    6、紋路圖案更換起來成本會(huì)比較高。    7、腐蝕時(shí)間太慢，產(chǎn)量低。蝕刻機(jī)可以分為化學(xué)蝕刻機(jī)及電解蝕刻機(jī)兩類。在化學(xué)蝕刻中是使用化學(xué)溶液，經(jīng)由化學(xué)反應(yīng)以達(dá)到蝕刻的目的，化學(xué)蝕刻機(jī)是將材料用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)。




離子植入：其是用來控制半導(dǎo)體中雜質(zhì)量的關(guān)鍵程序，對(duì)半導(dǎo)體表面附近區(qū)域進(jìn)行摻雜技術(shù)。優(yōu)點(diǎn)在于雜質(zhì)量的控制，雜質(zhì)分布的再重整，及低溫下操作。    離子植入機(jī)主要的供廠商為AMAT，中國部份只有中電科電子裝備公司能供應(yīng)。市場預(yù)計(jì)今明兩年中國離子植入機(jī)需求可達(dá)5億美元與7億美元。    沉積：PVD沉積為一種物理制程，此技術(shù)一般使用等惰性氣體，藉由在高真空中將離子以加速撞擊濺鍍靶材后，將靶材原子一個(gè)個(gè)濺擊出來，使被濺擊出來的材質(zhì)沉積在晶圓表面。    薄膜沉積設(shè)備主要的供應(yīng)商包含應(yīng)用材料、Vaportech、LamResearch、ASM、Tokki等。而中國相關(guān)設(shè)備制造廠有北方華創(chuàng)、沈陽拓荊等。北方華創(chuàng)是中國薄膜沉積設(shè)備龍頭，目前技術(shù)已達(dá)到14nm。市場預(yù)計(jì)今明兩年中國薄膜沉積設(shè)備需求可達(dá)15億美元與20億美元。    測試：在晶圓完成制造之前，會(huì)有一道晶圓中測工序。在測試過程中，會(huì)檢測每一個(gè)芯片的電路功能。

用于金屬腐蝕標(biāo)牌的耐腐蝕油墨必須具有以下要求：易于絲網(wǎng)印刷，流變性小，無的精細(xì)油墨，圖像清晰，與板粘接牢固，耐腐蝕，腐蝕后易于去除油墨等，耐腐蝕油墨大致可分為兩種類型：絲網(wǎng)印刷防腐成像油墨;紫外成像防腐油墨。

　　1，絲網(wǎng)印刷防腐成像油墨：

　　油墨可分為三種類型：耐腐蝕性：

　　a，耐酸腐蝕;

　　b，耐堿腐蝕;

　　c，耐酸堿腐蝕。

有不少朋友向我們小編反映到，自己在使用真空蝕刻機(jī)制作網(wǎng)版的過程中，總是在圖文部分出現(xiàn)顯影不透的現(xiàn)象。那作為一個(gè)的真空蝕刻機(jī)廠家，小編自然是總結(jié)了以下知識(shí)，希望能夠幫助到大家。

    一、是在恒溫箱中烘干網(wǎng)版的時(shí)間太長或烘干的溫度太高，兩者都可使涂布感光膠的網(wǎng)版在沒有曝光之前就產(chǎn)生“熱敏化”，如果再曝光就產(chǎn)生過量曝光，因此，圖像難以顯透了。    二、在涂布感光膠時(shí)，由于涂布的次數(shù)較多，涂布時(shí)又不注意避光操作造成多次曝光，再曝光時(shí)就難以顯透圖像。    三、曬版光源強(qiáng)度太大，曬版時(shí)間太長造成曝光過度，造成顯影困難。有時(shí)圖像反差太小，曝光時(shí)就會(huì)產(chǎn)生曝光過度，造成顯影困難。