特別是形成低共熔點(diǎn)合金蒸發(fā)源容易燒斷。例如在高溫時(shí)鉭和金會(huì)形成合金，鋁、鐵、鎳、鈷也會(huì)與鎢、鉬、鉭等蒸發(fā)源材料形成合金。鎢還能與水或氧發(fā)生反應(yīng)，形成揮發(fā)性的氧化物如WO、WO2或WO3;鉬也能與水或氧反應(yīng)而形成揮發(fā)性MoO3等。因此，應(yīng)選擇不會(huì)與鍍膜材料發(fā)生反應(yīng)或形成合金的材料做該材料的蒸發(fā)源材料。

Parylene C是系列中第二個(gè)具有商業(yè)價(jià)值的成員。它由雷同的單體系方式成，只是將其中一個(gè)芳香烴氫原子用一個(gè)氯原子所庖代了。

離子鍍：蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面，稱為離子鍍。這種技術(shù)是D.麥托克斯于1963年提出的。離子鍍是真空蒸發(fā)與陰極濺射技術(shù)的結(jié)合。一種離子鍍系統(tǒng)將基片臺(tái)作為陰極，外殼作陽(yáng)極，充入惰性氣體（如）以產(chǎn)生輝光放電。從蒸發(fā)源蒸發(fā)的分子通過(guò)等離子區(qū)時(shí)發(fā)生電離。正離子被基片臺(tái)負(fù)電壓加速打到基片表面。未電離的中性原子（約占蒸發(fā)料的95％）也沉積在基片或真空室壁表面。

電場(chǎng)對(duì)離化的蒸氣分子的加速作用（離子能量約幾百～幾千電子伏）和離子對(duì)基片的濺射清洗作用，使膜層附著強(qiáng)度大大提高。離子鍍工藝綜合了蒸發(fā)（高沉積速率）與濺射（良好的膜層附著力）工藝的特點(diǎn)，并有很好的繞射性，可為形狀復(fù)雜的工件鍍膜。

真空鍍膜加工技能是一種新穎的資料組成與加工的新技能，是外表工程技能范疇的主要組成部分。真空鍍膜加工技能是使用物理、化學(xué)手法將固體外表涂復(fù)一層特殊功能的鍍膜，然后使固體外表具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、、防輻射、導(dǎo)電、導(dǎo)磁、絕緣和裝修等許多優(yōu)于固體資料本身的優(yōu)勝功能，到達(dá)提高商品質(zhì)量、延伸商品壽數(shù)、節(jié)約能源和取得明顯技能經(jīng)濟(jì)效益的效果。