真空鍍膜技術(shù)是一項(xiàng)新興的技術(shù)，國(guó)際上直到60年代才開始將CVD(化學(xué)氣相鍍膜)技術(shù)應(yīng)用到硬質(zhì)合金工具中。因?yàn)檫@種方法需要在高溫(工藝溫度高于1000oC)下進(jìn)行，且涂層類型單一，局限性很大，所以在開發(fā)初期還有待改進(jìn)。真空鍍膜加工廠

、真空鍍的基本原理：在真空條件下，金屬、金屬合金等被蒸發(fā)蒸發(fā)，然后沉積到基體表面，蒸發(fā)法通常采用電阻加熱，電子束轟擊鍍料，使其蒸發(fā)成氣相，然后沉積到基體表面，PVD法歷早采用真空蒸鍍技術(shù)。

東莞真空電鍍這樣的一個(gè)發(fā)展越來(lái)越多，而且伴隨著現(xiàn)代的一個(gè)發(fā)展，越來(lái)越多的真空電鍍更是多，而且重要的一點(diǎn)是真空電鍍技術(shù)層出不窮，其真空電鍍鍍層具有優(yōu)異的耐磨性，耐蝕性，鍍層厚度均勻性，致密度高等特點(diǎn)，已在電子產(chǎn)品中獲得大量應(yīng)用，　

　　東莞真空電鍍廠概述，電的主要用途是，提高金屬制品或者零件的耐蝕性能，提高金屬制品的防護(hù)裝飾性能，電鍍能增強(qiáng)金屬的抗腐蝕性，增加硬度，提高導(dǎo)電性，耐熱性等。。

　　PVD鍍膜能夠鍍出的膜層的顏色有哪些？

　　我們目前能夠做出的膜層的顏色有IP金色（IPG IN18，IPG IN14）,IP玫瑰金，IP黑色，IP槍色，IP鉻色，IP咖啡色及各種顏色的IP間色加工。通過(guò)控制鍍膜過(guò)程中的相關(guān)參數(shù)，可以控制鍍出的顏色；鍍膜結(jié)束后可以用相關(guān)的儀器對(duì)顏色值進(jìn)行測(cè)量，使顏色得以量化，以確定所鍍出的顏色是否滿足要求。

 真空鍍膜是一種產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)。在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來(lái)打到被鍍物體的表面上。此項(xiàng)技術(shù)用于生產(chǎn)激光唱片(光盤)上的鋁鍍膜和由掩膜在印刷電路板上鍍金屬膜。在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。

為了驗(yàn)證有限元計(jì)算的結(jié)果，對(duì)真空室的形變和補(bǔ)償進(jìn)行了測(cè)試。第壹步，將四只千分表定位在工作臺(tái)安裝基點(diǎn)的真空壁外側(cè)，當(dāng)真空室由大氣抽到真空時(shí)，記錄各千分表的變化量，經(jīng)過(guò)一化處理后為用激光自準(zhǔn)直儀調(diào)整變補(bǔ)償。真空鍍膜價(jià)格由水平調(diào)整的自準(zhǔn)直儀發(fā)出一束激光穿過(guò)真空室的玻璃窗照射固定于工作臺(tái)上的反射鏡，在大氣環(huán)境下調(diào)整變補(bǔ)償調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，使反射光束進(jìn)入自準(zhǔn)直儀接收視場(chǎng)，記錄兩維角度偏差。