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發(fā)布時(shí)間:2021-01-19 20:47  
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氦質(zhì)譜檢漏儀的主要配置
科儀創(chuàng)新產(chǎn)品主要有:薄膜制備設(shè)備,真空冶金設(shè)備,檢漏設(shè)備,真空系統(tǒng)等非標(biāo)真空產(chǎn)品;熱管檢漏客戶(hù)案例:某電子股份公司,是世界IT產(chǎn)業(yè)500強(qiáng)之一,分公司及營(yíng)業(yè)處遍及美國(guó)、日本、歐洲、蘇格蘭、新加坡等地,全球員工近90000人。系列分子泵,離子泵,鈦升華泵,深冷捕集泵等高真空獲得設(shè)備;系列干式渦旋泵,干式爪泵,干式螺桿泵等無(wú)油真空獲得設(shè)備;超高真空環(huán)境模擬設(shè)備等高新技術(shù)產(chǎn)品。今天科儀創(chuàng)新的小編就和大家分享一下氦質(zhì)譜檢漏儀的主要配置有哪些,希望對(duì)您有所幫助!
1. 檢漏儀專(zhuān)用分子泵
2. 機(jī)械泵或者干泵
3. 定制檢漏儀專(zhuān)用電磁閥
4. 內(nèi)置標(biāo)準(zhǔn)漏口
5. 放大器
6. 采用質(zhì)譜專(zhuān)用模塊
以上是科儀創(chuàng)新為您一起分享的內(nèi)容,科儀創(chuàng)新專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)氦檢漏,歡迎新老客戶(hù)蒞臨。
氦質(zhì)譜檢漏儀的注意事項(xiàng)
檢漏儀的響應(yīng)時(shí)間會(huì)影響檢漏工作的速度,正常運(yùn)行的儀器響應(yīng)時(shí)間不大于3s。筆者實(shí)測(cè)時(shí),在漏點(diǎn)處噴射氦氣5~10s后,檢漏儀就發(fā)生響應(yīng),對(duì)于如此龐大的真空系統(tǒng),其反應(yīng)是相當(dāng)?shù)撵`敏。
檢漏時(shí)噴槍在漏孔處停留的時(shí)間應(yīng)為儀器響應(yīng)時(shí)間的3倍,該時(shí)間再加上氦氣在真空系統(tǒng)中的傳遞時(shí)間,即為兩次噴氦的較小間隔時(shí)間,當(dāng)然真空系統(tǒng)越龐大,該間隔時(shí)間也越長(zhǎng)。氦質(zhì)譜檢漏法利用氦氣作為示蹤氣體可準(zhǔn)確定位,定量漏點(diǎn),替代傳統(tǒng)泡沫檢漏和壓差檢漏,目前已廣泛應(yīng)用于光無(wú)源器件的檢漏。筆者根據(jù)實(shí)測(cè)經(jīng)驗(yàn),兩次噴氦的較小間隔時(shí)間控制在30s左右,即如果次噴氦后30s內(nèi)檢漏儀還沒(méi)有反應(yīng),則可進(jìn)行第二次噴氦。
清除時(shí)間在理論上與響應(yīng)時(shí)間相同,但由于儀器零件對(duì)氦的吸附和脫附作用的影響,清除時(shí)間一般要更長(zhǎng)些。筆者測(cè)算,在測(cè)試到數(shù)量級(jí)為10-9P a ?m3/s的微漏漏點(diǎn)時(shí),清除時(shí)間約須1分鐘;在測(cè)試到數(shù)量級(jí)為10-8P a ? m3/s的中漏漏點(diǎn)時(shí),清除時(shí)間約須2分鐘;在測(cè)試到數(shù)量級(jí)為10-7Pa?m3/s的大漏漏點(diǎn)時(shí),清除時(shí)間在3分鐘左右。質(zhì)譜儀通過(guò)其核心部件質(zhì)譜室,使不同質(zhì)量的氣體變成離子并在某種場(chǎng)中運(yùn)動(dòng)后,不同質(zhì)荷比的離子在場(chǎng)中彼此分開(kāi),而相同質(zhì)荷比的離子在場(chǎng)中匯聚在一起,如果在適當(dāng)位置安置接收1器接收所有這些離子,就會(huì)得到按照質(zhì)荷比大小依次分開(kāi)排列的質(zhì)譜圖,這就是質(zhì)譜。
科儀創(chuàng)新?lián)碛邢冗M(jìn)的技術(shù),我們都以質(zhì)量為本,信譽(yù)高,我們竭誠(chéng)歡迎廣大的顧客來(lái)公司洽談業(yè)務(wù)。如果您對(duì)氦檢漏感興趣,歡迎點(diǎn)擊左右兩側(cè)的在線(xiàn)客服,或撥打咨詢(xún)電話(huà)。
氦質(zhì)譜檢漏儀測(cè)量數(shù)據(jù)處理
漏率的溫度修正
標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率易受溫度變化影響,溫度對(duì)標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的影響一般為3%/℃ ,所以如果實(shí)際環(huán)境溫度和標(biāo)準(zhǔn)漏孔證書(shū)中溫度不一致,需要將標(biāo)準(zhǔn)漏孔證書(shū)中漏率和標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的氦質(zhì)譜檢漏儀示值修正至同一環(huán)境溫度下來(lái)計(jì)算,并在測(cè)試結(jié)果中加以說(shuō)明,修正方法如下:
方法一: 將標(biāo)準(zhǔn)漏孔證書(shū)中的漏率修正至實(shí)際環(huán)境溫度下,用標(biāo)準(zhǔn)漏孔證書(shū)中的漏率加上或減去溫度對(duì)標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的影響系數(shù)計(jì)算值;
方法二: 將標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的氦質(zhì)譜檢漏儀示值平均值修正至標(biāo)準(zhǔn)漏孔證書(shū)中環(huán)境溫度下,用標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的氦質(zhì)譜檢漏儀示值平均值加上或減去溫度對(duì)標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的影響系數(shù)計(jì)算值。
用氦氣作為氦質(zhì)譜檢漏氣體的原因
選擇示漏氣體(示蹤氣體)的原則是:它在空氣中及真空系統(tǒng)中的含量低;檢漏儀對(duì)示漏氣體的靈敏度高;它不會(huì)對(duì)人員、環(huán)境、被檢件及檢漏儀造成污染、傷害和安全隱患;價(jià)格低。
質(zhì)譜檢漏儀通常選擇氦氣作示蹤氣體,主要原因如下:
1、氦在空氣中及真空系統(tǒng)殘余氣體中的含量極1少(在空氣中約含5.2ppm),在材料出氣中也很少,因此本底壓力小,輸出的本底電流也小。正因?yàn)楸镜仔?,由某些原因引起本底的波?dòng),亦即本底噪聲也就小,因此微小漏率也就能反應(yīng)出來(lái),靈敏度高。
2、氦的質(zhì)量?。ㄏ鄬?duì)分子質(zhì)量為4),易于穿過(guò)漏孔。這樣,氦較除氫以外的其他氣體通過(guò)同一漏孔的漏率就大,容易發(fā)現(xiàn),靈敏度高。
3、氦是惰性氣體,不與被檢件器壁起化學(xué)反應(yīng),不會(huì)污染被檢件,使用安全。
4、在氦兩側(cè)的是氫(質(zhì)荷比為2)和雙電荷原子碳(質(zhì)荷比為6),質(zhì)荷比都與氦相差較大。今天科儀創(chuàng)新小編和大家分享的是氦質(zhì)譜檢漏的工作原理,希望對(duì)您有所幫助。這樣,它們?cè)诜治銎髦械钠D(zhuǎn)半徑相差也大,容易分開(kāi),定標(biāo)找氦峰時(shí),不易受其他離子的干擾,因此就降低了對(duì)分析器制造精度的要求,易于加工。同時(shí),分析器出口電極及離子源加速極的隙縫也可以加大,使更多的氦離子通過(guò),提高了儀器靈敏度。
5、氦在被檢件及真空系統(tǒng)中不易被吸附。這樣檢出一個(gè)漏孔可以使氦信號(hào)迅速消失以便繼續(xù)進(jìn)行檢漏,提高了儀器的檢漏效率。
6.氫氣有些性能(如質(zhì)量小、易通過(guò)漏孔)比氦還好,然而由于氫一方面有易1爆危險(xiǎn),另一方面在油擴(kuò)散泵中,由于油受熱裂解會(huì)產(chǎn)生大量的碳和氫,使氫本底極高且波動(dòng)大,以致靈敏度大大降低,所以很少采用。
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