真空鍍膜機設備真空鍍膜機系統(tǒng)特點

真空鍍膜機在等離子體束濺射中，濺射離子均勻刻蝕靶面，并且不會使靶面產(chǎn)生氧化。與磁控濺射相比，其中的等離子體束是由射頻等離子體源產(chǎn)生的，磁場的作用則是使等離子體束會聚并偏轉至靶面，因此，雖然等離子體束濺射鍍膜系統(tǒng)內(nèi)也有磁場，但其磁場卻并不控制影響濺射，這也摒棄了磁控濺射中由磁場不均勻帶來的“磁控”的缺點。在濺射完成后，所得的靶材利用率可高達90%以上。

真空鍍膜機即分別進行磁控濺射和等離子體束濺射之后靶面刻蝕的對比圖。由于靶材的利用率大幅度提高，也解決了磁控濺射中所難以克服的缺點，即靶中的毒導致的刻蝕不均勻

真空鍍膜機此外，磁控濺射由于背面磁鐵磁場不均勻而產(chǎn)生濺射跑道，非磁場約束區(qū)很容易產(chǎn)生氧化，因此很難沉積鐵磁性材料，而等離子體束濺射中由于不用磁鐵作為等離子體約束，能夠進行鐵磁性材料的鍍膜，并且可以使用很厚的靶材，圖3中實驗金屬鈷的厚度即為6mm。對于鐵、鎳、鉻以及鐵磁性化合物，等離子體束濺射也都具有很高的濺射速率。

應用該項鍍膜技術的系統(tǒng)還有一個優(yōu)點，當將電磁線圈的極性反接時，由于磁場的方向產(chǎn)生了變化，等離子體束會在磁場的作用下轟擊基片，從而對基片產(chǎn)生清洗作用,如圖4所示。這實際上可以使得應用該項技術的鍍膜機省略常規(guī)鍍膜機的清洗用離子源。

多弧濺射在靶材上施小電壓大電流的作用

多弧濺射在靶材上施小電壓大電流使材料離子化（帶正電顆粒），從而高速擊向基片(負電)并沉積，形成致密膜堅硬膜。主要用于耐磨耐蝕膜。中頻濺射的原理跟一般的直流濺射是相同的,不同的是直流濺射把筒體當陽極,而中頻濺射是成對的,筒體是否參加必須視整體設計而定,與整個系統(tǒng)濺射過程中,陽極陰極的安排有關,參與的比率周期有很多方法,不同的方法可得到不相同的濺射產(chǎn)額,得到不相同的離子密度中頻濺射主要技術在于電源的設計與應用,目前較成熟的是正弦波與脈沖方波二種方式輸出,各有其優(yōu)缺點,首先應考慮膜層種類,分析哪種電源輸出方式適合哪種膜層,可以用電源特性來得到想要的膜層效果.中頻濺射也是磁控濺射的一種,一般真空鍍膜機磁控濺射靶的設計,磁場的設計是各家技術的重點,國際幾個有名的濺射靶制造商,對靶磁場的設計相當專業(yè),改變磁場設計能得到不相同的等離子體蒸發(fā)量.電子的路徑,等離子體的分布.關于陰極?。ㄒ簿褪请x子鍍），磁控濺射，以及坩堝蒸發(fā)都屬于PVD（物理氣相沉積），坩堝蒸發(fā)主要是相變，蒸發(fā)靶材只有幾個電子伏特的能量。

光學真空鍍膜機清洗和保養(yǎng)方法

光學薄膜在我們的生活中無處不在，從精密及光學設備、顯示器設備到日常生活中的光學薄膜應用;比方說，平時戴的眼鏡、數(shù)碼相機、各式家電用品，或者是防偽技術，皆能被稱之為光學薄膜技術應用之延伸。光學鍍膜技術以及普及到人們生活方方面面，因此光學真空鍍膜機也是大家目前非常關注的話題。今天至成真空小編為大家介紹一下光學真空鍍膜機在平時運行的時候該如何清洗和保養(yǎng)問題，希望能讓大家對光學真空鍍膜機多一些了解。

首先我們來介紹一下光緒真空鍍膜機的清洗問題：設備使用一個星期后，因鍍料除鍍在工件表面外，亦因無定向性而工作室內(nèi)的襯板上鍍料，并越鍍越厚，該層膜厚因組織、繞疏松，吸收大量氣體而造成真空鍍膜設備抽氣越來越慢。此時，應對工作室及襯板進行清洗，如不必要拆落來的部件，可用砂紙打磨干凈。

因此，襯板必須烘干水份才能安裝，烘干前，襯板的水分盡量抹干，工作架等部件用砂紙清潔后，需要把真空室的所有灰塵清理干凈，此可用吸塵器吸干凈灰塵。后安裝襯板時，真空室及襯板都需要用酒精控拭干凈。如使用電子槍及離子源輔助鍍膜，可能會造成清潔困難，可使用噴沙等方法來清潔。