蘇州工業(yè)園區(qū)諾泰盈電子有限公司是一家專業(yè)從事EMI材料/絕緣材料/緩沖泡棉材料/散熱型材料及各種雙面膠材料深加工的企業(yè)。

主要產(chǎn)品有：導(dǎo)光膜/銅鋁箔/導(dǎo)電雙面/導(dǎo)電布/鈹銅彈片/吸波材/導(dǎo)電泡棉/PET/PP/PE/EVA/CR/PORON/RUBBER/硅膠片及各種相面膠帶材料的模切加工。

顯影液配方

D-7 顯影液 （底片、相紙通用）溫水 30~45℃ 750ml米吐爾 3g無水亞硫酸鈉 45g對(duì)二酚（幾奴尼） 12g無水碳酸鈉 67.5g化鉀 2gD-76型 粒顯影液 （底片用）溫水 52℃ 750ml米吐爾 2g無水亞硫酸鈉 100g對(duì)二酚（幾奴尼） 5g硼砂 2gD-19型 高反差強(qiáng)力顯影液 （全息用）溫水 50℃ 800ml米吐爾 2g無水亞硫酸鈉 90g對(duì)二酚（幾奴尼） 8g無水碳酸鈉 48g化鉀 5g注：將藥劑依次溶于溫水后，加水至1000ml。用反差顯影液沖洗的影像，會(huì)使微粒結(jié)構(gòu)變壞、粒度增大，并加重了光暈及邊緣效應(yīng)，尤其是在錯(cuò)誤曝光時(shí)。

顯影液常見問題

a、顯影不完全（Incomplete Development）。表面還殘留有光刻膠。由顯影液不足造成。

b、顯影不夠（Under Development）。顯影的側(cè)壁不垂直。由顯影時(shí)間不足造成。

c、過度顯影（Over Development）?？拷砻娴墓饪棠z被顯影液過度溶解，形成臺(tái)階。由顯影時(shí)間太長(zhǎng)造成。

顯影液組成成分的作用與顯影液的配方

甘氨酸是作用極慢的，可洗出軟影調(diào)低反差的底片，能夠很好地表現(xiàn)陰影部位上的細(xì)部，而灰霧度很小。甘氨酸可用作制備微粒顯影用平衡顯影液。長(zhǎng)期以來，一直使用休貝爾濃縮液，這是甘氨酸顯影液的濃縮溶液，很易于貯存。甘氨酸不易溶于水，而易溶于堿性溶液中。長(zhǎng)期以來，一直使用休貝爾濃縮液， 這是甘氨酸顯影液的濃縮溶液，很易于貯存。甘氨酸常被 用來與米吐爾、二酚及菲尼酮配合使用。

普通顯影液有時(shí)也稱為通用顯影液，其特點(diǎn)是具有中等活性，即可用于沖洗底片感光材料，又可用于沖洗正片感光材料。顯影液組成成分的作用與顯影液的配方由于并唑具有這一性質(zhì)，可以有效地提高影像的反差。普通顯影液的使用溫度為18-20°C，用新制備的溶液沖洗底片材料為6一9分鐘，而沖洗正片材料為4分鐘。在此種顯影液的成分中，包含顯影物質(zhì)(通常是用兩種顯影物質(zhì)相配合)5-10克/升，亞硫酸鈉2040克/升，碳酸堿(蘇打或碳酸鉀)15-30克/升及化鉀1—5克/升。