中頻磁控濺射鍍膜設(shè)備有哪些特點(diǎn)

中頻磁控鍍膜設(shè)備濺射技術(shù)已漸成為濺射鍍膜的主流技術(shù)，它優(yōu)于直流磁控濺射鍍膜。中頻磁控鍍膜設(shè)備濺射技術(shù)已漸成為濺射鍍膜的主流技術(shù)，它優(yōu)于直流磁控濺射鍍膜的特點(diǎn)是克服了陽極消失現(xiàn)象；減弱或消除靶的異?；」夥烹姟Ｒ虼?，提高了濺射過程的工藝穩(wěn)定性，同時(shí)，提高了介質(zhì)膜的沉積速率數(shù)倍。

新研發(fā)平面靶，圓柱靶，孿生靶，對靶等多種形式的中頻濺射靶結(jié)構(gòu)和布局。該類設(shè)備廣泛應(yīng)用于表殼、表帶、手機(jī)殼、高爾夫球具、五金、餐具等鍍TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各種裝飾鍍層。

真空磁控濺射鍍膜機(jī)的電氣控制系統(tǒng)介紹

真空磁控濺射鍍膜機(jī)的電氣控制系統(tǒng)按位置分為控制柜、變壓器組和操作臺(tái)三個(gè)主要部分。設(shè)備所有功能的控制元器件包括可編程PLC、變頻器、調(diào)壓模塊等都裝在控制柜里，控制柜的正面安裝有電阻、電離復(fù)合真空計(jì)，安裝有增壓泵、擴(kuò)散泵的加熱電流表以及三相電源的指示燈、報(bào)警指示燈、緊急停止開關(guān)。

變壓器組安裝在真空罐的下面，其輸出端正極直接與對應(yīng)的蒸發(fā)電極棒連接，輸出端負(fù)極并接后再與蒸發(fā)負(fù)極連接。

操作臺(tái)安放在真空罐的前方、觀察窗的下方，觸摸屏、各部件的操作控制按鈕、旋鈕或開關(guān)都設(shè)在操作臺(tái)的面板上。

觸摸屏位于操作面板的左上部，卷繞系統(tǒng)參數(shù)包括收放卷的張力、卷徑、機(jī)器的運(yùn)行速度等的設(shè)置和數(shù)據(jù)顯示、真空系統(tǒng)的運(yùn)行指示都在觸摸屏中進(jìn)行。

操作面板的右上部是蒸發(fā)源加熱功率調(diào)節(jié)鈕和電流表，可以調(diào)節(jié)和顯示每組蒸發(fā)源的功率。

操作面板的下部是功能控制按鈕或開關(guān)，包括控制電源總開關(guān)、卷繞車進(jìn)退、擺臂進(jìn)退、彎輥正反轉(zhuǎn)、送絲開關(guān)及速度快慢、蓋板開關(guān)、系統(tǒng)運(yùn)行的控制模式選擇等。

真空磁控濺射鍍膜機(jī)用戶設(shè)置具體設(shè)置

按“用戶設(shè)置”鈕進(jìn)入真空磁控濺射鍍膜機(jī)的用戶設(shè)置界面，里面的數(shù)值除了時(shí)間參數(shù)可以根據(jù)機(jī)器運(yùn)行情況作適當(dāng)調(diào)整外，其余參數(shù)經(jīng)調(diào)試設(shè)定后一般不作修改。各參數(shù)功能如下：

主輥加速時(shí)間設(shè)定：用于設(shè)定主輥從低速度0m/min加速至高速度400m/min的所需時(shí)間。單位：5秒。當(dāng)輸入數(shù)值為4時(shí)，加速時(shí)間是20秒。

主輥減速時(shí)間設(shè)定：用于設(shè)定主輥從高速度400m/min減速至低速度0m/min的所需時(shí)間。單位：5秒。

收卷張力零速保持：用于設(shè)定零速張力保持時(shí)，收卷的力矩輸出值。

放卷張力零速保持：用于設(shè)定零速張力保持時(shí)，放卷的力矩輸出值。

編碼器輥直徑輸入：此數(shù)值為編碼器輥直徑的實(shí)際測量值。此數(shù)值必須正確無誤，以確保設(shè)備運(yùn)行過程的穩(wěn)定性。

放卷初徑誤差值正設(shè)定：用于設(shè)定卷繞系統(tǒng)啟動(dòng)運(yùn)行時(shí)，“放卷初始卷徑輸入”值允許高于實(shí)際測量值的誤差值。

放卷初徑誤差值負(fù)設(shè)定：用于設(shè)定卷繞系統(tǒng)啟動(dòng)運(yùn)行時(shí)，“放卷初始卷徑輸入”值允許低于實(shí)際測量值的誤差值。

擺輥動(dòng)作時(shí)間設(shè)定：用于設(shè)定擺臂在自動(dòng)控制模式時(shí)，擺輥電眼檢測到信號(hào)后擺臂自動(dòng)往外退的動(dòng)作時(shí)間。

pvd鍍膜設(shè)備鍍出的膜層出現(xiàn)異樣,是什么原因

之前有少數(shù)客戶會(huì)咨詢我們，為什么PVD鍍膜設(shè)備鍍出來的膜，偶爾會(huì)出現(xiàn)異樣的情況，問具體是什么原因。經(jīng)過我們技術(shù)人員上門檢查排查，原因各有不同，下面真空小編為大家講解真空鍍膜不良解析。

隨著消費(fèi)水平的提升，人們對產(chǎn)品外觀要求也越來越更高，PVD鍍膜的應(yīng)用也越來越廣泛。PVD鍍膜設(shè)備也獲得越來越多的制造業(yè)廠家認(rèn)可和喜愛，它的優(yōu)勢也是顯而易見的。大家都知道機(jī)器，真空鍍膜是把金屬或者金屬氧化物變成氣態(tài)的分子或原子使其沉積在鍍件表面形成鍍層的一種技術(shù)。和傳統(tǒng)的電鍍技術(shù)相比污染更小、能耗更低，所需的成本較低，裝飾效果和金屬感都比較強(qiáng)。但是大家也都知道它的缺點(diǎn)，PVD電鍍工藝不良率高、生產(chǎn)效率低、膜后不穩(wěn)定以使顏色穩(wěn)定性差等，這是整個(gè)行業(yè)的痛點(diǎn)。隨著后期技術(shù)不斷的發(fā)展，環(huán)保要求門檻不斷提高，傳統(tǒng)電鍍逐漸將被替代及消費(fèi)者對產(chǎn)品外觀的提高，真空鍍膜技術(shù)在未來會(huì)有更廣闊的發(fā)展前景。