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發(fā)布時(shí)間:2021-09-09 20:58  
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光刻膠:用化學(xué)反應(yīng)進(jìn)行圖像轉(zhuǎn)移的媒介
光刻膠具有光化學(xué)敏感性,其經(jīng)過(guò)曝光、顯影、刻蝕等工藝,可以將設(shè)計(jì)好的微細(xì)圖形從掩膜版轉(zhuǎn)移到待加工基片。
光刻膠和集成電路制造產(chǎn)業(yè)鏈的前端的即為光刻膠專(zhuān)用化學(xué)品,生產(chǎn)而得的不同類(lèi)型的光刻膠被應(yīng)用于消費(fèi)電子、家用電器、信息通訊、汽車(chē)電子、航空航天等在內(nèi)的各個(gè)下游終端領(lǐng)域,需求較為分散。
光刻膠基于應(yīng)用領(lǐng)域不同一般可以分為半導(dǎo)體集成電路(IC)光刻膠、 PCB光刻膠以及LCD光刻膠三個(gè)大類(lèi)。其中, PCB光刻膠占全球市場(chǎng)24.5%,半導(dǎo)體IC光刻膠占全球市場(chǎng)24.1%,LCD光刻膠占全球市場(chǎng)26.6%。
PR1-1000A1NR71 3000PY光刻膠報(bào)價(jià)NR71 3000PY光刻膠報(bào)價(jià)
5,顯影液
在已經(jīng)曝光的硅襯底膠面噴淋顯影液,或?qū)⑵浣菰陲@影液中,正膠是曝光區(qū)、而負(fù)膠是非曝光區(qū)的膠膜溶入顯影液,膠膜中的潛影顯現(xiàn)出來(lái),形成三維圖像。
顯影完成后通常進(jìn)行工藝線的顯影檢驗(yàn),通常是在顯微鏡下觀察顯影效果,顯影是否徹底、光刻膠圖形是否完好。
影響顯影的效果主要因素:
1,曝光時(shí)間,2前烘溫度和時(shí)間,3光刻膠膜厚,4顯影液濃度溫度,5顯影液的攪動(dòng)情況。