相對(duì)濕度越高,粘附的難去掉，但當(dāng)相對(duì)濕度低于30%時(shí)，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對(duì)于硅片生產(chǎn)溫度范圍為35—45%。1000級(jí) 一般只對(duì)塵埃濃度做要求，用于光學(xué)器件，儀器等高精儀器等10000級(jí)，用于液壓設(shè)備的生產(chǎn)，和一些食品飲料的生產(chǎn)。100000級(jí)，這個(gè)級(jí)別比較的低，對(duì)凈化度要求不是很高，主要在印刷廠，包裝廠等。潔凈室中的溫濕度控制。潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來(lái)確定，但在滿(mǎn)足工藝要求的條件下，應(yīng)考慮到 人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對(duì)溫濕度的要求也越來(lái)越嚴(yán)的趨勢(shì)。

具體工藝對(duì)溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來(lái)越精細(xì)，所以對(duì)溫度波動(dòng)范圍的要求越來(lái)越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來(lái)越小。潔凈空間的壓力要高于非潔凈空間的壓力。潔凈度級(jí)別高的空間的壓力要高于相鄰的潔凈度級(jí)別低的空間的壓力。相通潔凈室之間的門(mén)要開(kāi)向潔凈度級(jí)別高的房間"1級(jí)：主要應(yīng)用于電子工業(yè)，這是目前對(duì)凈化工程要求高的環(huán)境，集成電路要求的精度要達(dá)到亞微米。隨著微電子工業(yè)技術(shù)領(lǐng)域的突飛猛進(jìn)，對(duì)潔凈室的要求越來(lái)越高。及時(shí)生產(chǎn)間內(nèi)的例子直徑僅有1微米，也會(huì)使產(chǎn)品壽命受到影響。

凈化工程技術(shù)的興起不過(guò)是上個(gè)世紀(jì)的事情，但今天凈化技術(shù)發(fā)揮著重要作用則是有目共睹的。隨著產(chǎn)品向著好的方向發(fā)展，對(duì)凈化車(chē)間的依賴(lài)度也越來(lái)越高。設(shè)計(jì)凈化系統(tǒng)組織的原則是相鄰二級(jí)過(guò)濾器的效率不能太接近，也不能相差太大。一般采用初效、中效、亞(或)三級(jí)過(guò)濾器。也可分四級(jí)，增加一級(jí)過(guò)濾器。在實(shí)際施工中，凈化項(xiàng)目通常分為，分工和分時(shí)。 這種安排有利于各種和工作類(lèi)型的管理。 但是，易于進(jìn)行多塵和無(wú)塵的交叉操作，應(yīng)盡可能避免這種結(jié)構(gòu)布置。 如果不可避免，應(yīng)該防止灰塵和有效清潔。