電子束結構介紹

粒子增速器的結構可以與顯像管類比。顯像管中的電子槍對應于增速器的電子槍或離子源，顯像管中加速電子用的高壓電極對應于增速器中的高壓加速電極及加速腔。顯像管中控制電子運動的電偏轉板與聚焦電子的聚焦線圈，對應于增速器中控制粒子運動軌道和聚焦粒子束流的多種電磁部件，如導向磁鐵、聚焦磁鐵、多極校正磁鐵等。對粒子增速器的粒子運行管道來說，為了減少粒子在運動中與殘余氣體碰撞而造成粒子的丟失和束流性能變壞，所要求的真空度比顯像管要高數(shù)千到數(shù)萬倍。電子束原理介紹沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業(yè)生產、銷售電子束產品，我們?yōu)槟治鲈摦a品的以下信息。隨著科學技術的不斷發(fā)展，根據(jù)科學家對粒子能量和流強的不同要求，陸續(xù)產生了不同原理、不同結構的多種增速器。

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電子束蒸發(fā)鍍膜機設備性能介紹

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設備性能技術指標：

1、設備極限真空度：5×10-5Pa（電子槍靜止狀態(tài)）。

2、設備總體漏放率：關機12小時后，真空度≤8Pa。

3、從大氣到抽到≤9×10-4Pa，40min(新設備充干燥氮氣)，提高了工作效率。

4、真空漏率：≤10-7Pa.l/s