五金電鍍加工金屬真空電鍍公司

真空電鍍層厚度控制方法

  1、原理：每種金屬電鍍時(shí)的厚度與電流密度和電鍍時(shí)間有關(guān)。

  2、方法：首先要計(jì)算出每種工件的面積，然后根據(jù)電鍍工藝要求確定每個(gè)工件的電流密度。例如：比亞迪的插頭射頻端口面積約為0.13dm2，鍍錫工藝要求電流密度為1.5A/dm2，因此每個(gè)工件的施鍍電流約0.20A。如每掛掛72個(gè)，則每掛的施鍍電流應(yīng)為15A。確定了電流以后，厚度就只跟時(shí)間有關(guān)了，根據(jù)電化學(xué)計(jì)算，當(dāng)電流密度為1.5A/dm2時(shí)，電鍍1u的錫鍍層約需要1.5分鐘，如要求鍍層厚度4u，則需鍍4.5分鐘。

PVD技術(shù)出現(xiàn)于，制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數(shù)、很好的耐磨性和化學(xué)穩(wěn)定性等優(yōu)點(diǎn)。在高速具領(lǐng)域的成功應(yīng)用引起了世界各國制造業(yè)的高度重視，人們在開發(fā)、高可靠性涂層設(shè)備的同時(shí)，也在硬質(zhì)合金、陶瓷類刀具中進(jìn)行了更加深入的涂層應(yīng)用研究。

PVD鍍膜的具體原理是什么?

　　離子鍍膜(PVD鍍膜)技術(shù)，其原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)電離，在電場的作用下，使被蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。

真空電鍍原理說明：

真空電鍍的鍍膜方式分為真空蒸鍍(PVD)與真空濺鍍(SPUTTER)二種：

(1) 真空蒸鍍(PVD)

此乃早期之真空電鍍模式，其原理乃利用鎢絲來當(dāng)電極，當(dāng)鎢絲被通以電流加熱至鋁金屬之熔點(diǎn)（700至 800℃）時(shí)，此時(shí)置放在鎢絲上之鋁金屬即被蒸發(fā)為鋁原子團(tuán)，此時(shí)鋁原子團(tuán)再一層一層表面之被鍍物，故此制程亦被稱為PVD，物理氣相沉積。