溶液溫度濃度對(duì)微弧氧化膜層性能的影響

       1、微弧氧化溶液溫度低時(shí)，氧化膜的生長(zhǎng)速度較快，膜致密，性能較佳。但溫度過(guò)低時(shí)，氧化作用較弱，膜厚和硬度值都較低。

       2、微弧氧化溶液溫度過(guò)高時(shí)，堿性電解液對(duì)氧化膜的溶解作用增強(qiáng)，致使膜厚與硬度顯著下降，且溶液易飛濺，膜層也易被局部燒焦或擊穿。所謂以微弧氧化溶液的溫度一定要控制好，這樣才可以提高微弧氧化膜層的性能。

       3、溶液酸堿度：酸堿度過(guò)大或過(guò)小，溶解速度都加快，氧化膜生長(zhǎng)速度減慢，所以一般選擇弱堿性溶液。

       4、溶液濃度：溶液濃度對(duì)氧化膜的成膜速率、表面顏色和粗糙度都有影響。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線(xiàn)、微弧氧化電源

      微弧氧化技術(shù)是一種低碳環(huán)保的興新表面工藝處理技術(shù)。微弧氧化電源已獲得國(guó)家發(fā)明專(zhuān)利，其特征在于采用多重電網(wǎng)濾波器和變壓器隔離的三相平衡供電，利用功率開(kāi)關(guān)元件進(jìn)行斬波變換，獲得脈沖寬度連續(xù)可調(diào)的大功率正、負(fù)脈沖。適用于對(duì)鋁、鎂、鈦等輕金屬以及鋁合金的表面處理。它能合理地在PCB原材料表面上原體生長(zhǎng)發(fā)育一層勻稱(chēng)的陶瓷膜。因?yàn)槠浼庸すに囂匦燥@著，表面處理的性能優(yōu)點(diǎn)凸出，自該技術(shù)被創(chuàng)造發(fā)明至今，深受大家的親睞。微弧氧化解決是一種在稀有金屬表面原點(diǎn)生長(zhǎng)發(fā)育化合物瓷器的新技術(shù)應(yīng)用。選用微弧氧化技術(shù)對(duì)鎂以及合金制品開(kāi)展表面瓷器化解決，具備加工工藝全過(guò)程簡(jiǎn)易，占地小，處理工藝能力強(qiáng)，生產(chǎn)制造速度快，適用大批量工業(yè)生產(chǎn)等優(yōu)勢(shì)。

1、陽(yáng)極氧化膜厚不足。解決的辦法是檢查陽(yáng)極氧化工藝是否規(guī)范，看溫度，電壓，導(dǎo)電等因素是否穩(wěn)定，若有異常，請(qǐng)相應(yīng)調(diào)整規(guī)范之，若無(wú)異常，可適當(dāng)延長(zhǎng)氧化時(shí)間，保證膜厚達(dá)標(biāo)。

2、染液pH值太高，此時(shí)，可用冰醋酸將pH值調(diào)至規(guī)范值。

3、導(dǎo)電不良。可能陽(yáng)極銅桿或陰極鉛板接觸不良所示批量導(dǎo)電不良。注意清洗陽(yáng)極銅桿及陰極鉛板，保證接觸良好。