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發(fā)布時(shí)間:2021-05-08 05:49  
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影響光學(xué)玻璃清洗的因素有哪些呢?下面具體看看:
A,清洗工藝的技術(shù)關(guān)鍵:光學(xué)玻璃經(jīng)過清洗后能否達(dá)到表面不留任何油污,污跡,表面光滑,水膜完好!
B,影響清洗后光學(xué)玻璃質(zhì)量的因素及相應(yīng)的解決方法:
(1)玻璃本身的質(zhì)量螺旋送料機(jī)及被污染的情況,主要為:表面有霉點(diǎn),氣泡,劃傷等,在機(jī)械處理中,如:研磨,搽試,測(cè)應(yīng)力時(shí),人為導(dǎo)致的污染情況不一;
(2)清洗劑的選擇其能動(dòng)及溫度,水質(zhì);我們采用非ODS的水類堿性清洗劑,主要由 水,堿,表面活性劑,防銹材料組成,化學(xué)式C3H8,具有側(cè)鏈的環(huán)狀烯烴,具有較強(qiáng)的 溶油能力;特點(diǎn):低毒,不燃,清洗成本低等特點(diǎn);
(3)溶液的濃度直接影響清洗度的大??; 通常清洗液的PH值一般在8.5-12之間,若PH值大于箱式變壓站10,側(cè)表面活性物質(zhì)作用要削弱,當(dāng)PH 值大于12時(shí),側(cè)清潔度下降。
(4)溶液溫度及浸泡時(shí)間也同高溫循環(huán)風(fēng)機(jī)樣影響去污效率; 當(dāng)溫度上升,溶液的反應(yīng)速度也上升,污染物的粘度下降,便于污染物脫離,但溶液的穩(wěn)定 度下降。若溫度過高,會(huì)在玻璃邊角上產(chǎn)生花紋。
(5)在清洗過程中,還應(yīng)注意必須使用純水或去離子水,若使用自來水等硬水側(cè)很難除去玻璃上的油污,且水中所含的Ca,Na離子等雜質(zhì)會(huì)在烘干后的玻璃表面形成一層白色霧狀膜,污染玻璃;
(6)光學(xué)玻璃經(jīng)清洗后需漂洗,漂洗后的清潔度,除與清潔劑的漂洗性和清洗液中的清潔劑濃度有關(guān)外,還與漂洗工序的多少,漂洗供水量的大小,溫度及循環(huán)使用的純水是否干凈有關(guān);
(7)清洗環(huán)境的清潔程度;
(8)清洗后的干燥工藝及溫度: 應(yīng)盡量保證玻璃垂直,可在玻璃下墊陶瓷柱,避免烘干后玻璃下沿有水??;烘箱溫度控制在70度左右,時(shí)間在20分鐘左右。若溫度過高,會(huì)在玻璃邊角上產(chǎn)生花紋。
光學(xué)玻璃和其它玻璃的不同之點(diǎn)在于哪些方面呢
光學(xué)玻璃用于制造光學(xué)儀器或機(jī)械系統(tǒng)的透鏡、棱鏡、反射鏡、窗口等的玻璃材料。包括無色光學(xué)玻璃(通常簡稱光學(xué)玻璃)、有色光學(xué)玻璃、耐輻射光學(xué)玻璃、防輻射玻璃和光學(xué)石英玻璃等。二、放入光學(xué)玻璃原材料:熔解爐(尤其是黏土爐)通過長期的枯燥后,放入依照特殊配方以及通過選別的原材料于熔解爐中,準(zhǔn)備熔融。光學(xué)玻璃具有高度的透明性、化學(xué)及物理學(xué)(結(jié)構(gòu)和性能)上的高度均勻性,具有特定和精l確的光學(xué)常數(shù)。
光學(xué)玻璃和其它玻璃的不同之點(diǎn)在于它作為光學(xué)系統(tǒng)的一個(gè)組成部分,必須滿足光學(xué)成象的要求。因此,光學(xué)玻璃質(zhì)量的判定也包括某些特殊的和較嚴(yán)格的指標(biāo)。
光學(xué)玻璃的精密拋光的化學(xué)穩(wěn)定性
光學(xué)玻璃元件在制造和使用過程中,其拋光表面抵抗各種侵蝕性介質(zhì)作用的能力稱為光學(xué)玻璃的化學(xué)穩(wěn)定性。
1 抗潮濕大氣作用穩(wěn)定性RC(S)(表面法)
根據(jù)對(duì)潮濕大氣作用的穩(wěn)定性,分為三級(jí):
1級(jí)—在溫度50℃,相對(duì)濕度80%的條件下,光學(xué)玻璃拋光表面形成水解斑點(diǎn)的時(shí)間超過 20h;
2級(jí)—在相同試驗(yàn)條件下,形成水解斑點(diǎn)的時(shí)間在5h~20h之間; 3級(jí)--在相同試驗(yàn)條件下,形成水解斑點(diǎn)的時(shí)間不到5h。
光學(xué)玻璃
2抗酸作用穩(wěn)定性RA(S)(表面法)
根據(jù)對(duì)酸溶液作用的穩(wěn)定性,分為三級(jí):
1級(jí)—在0.1N、溫度50℃醋l酸溶液作用下,光學(xué)玻璃拋光表面的破壞深度達(dá)135nm的時(shí)間 超過5h;
2級(jí)—在相同試驗(yàn)條件下,破壞深度達(dá)135nm的時(shí)間在1h~5h; 3級(jí)--在相同試驗(yàn)條件下,破壞深度達(dá)135nm的時(shí)間不到1h。
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