真空鍍膜設備的應用

　1、真空鍍膜設備在信息存儲領域中的應用

　　真空蒸發(fā)鍍膜機薄膜材料作為信息記錄于存儲介質(zhì)，有其得天獨厚的優(yōu)勢：由于薄膜很薄可以忽略渦流損耗；磁化反轉(zhuǎn)極為迅速；車燈鍍膜機與膜面平行的雙穩(wěn)態(tài)狀態(tài)容易保持等。

　　2、 真空鍍膜設備在光學儀器中的應用

　　人們熟悉的光學儀器有望遠鏡、顯微鏡、照相機、測距儀，以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等，它們都離不開鍍膜技術，鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。

真空鍍膜技術是在真空條件下采用物理或化學方法，使物體表面獲得所需的涂層，目前已被廣泛應用于耐酸、耐蝕、耐熱、表面硬化、裝飾、潤滑、光電通訊、電子集成、能源等領域。真空鍍膜技術也是PVD涂層的常用制備方法，如真空蒸發(fā)、濺射鍍膜和離子鍍等通常稱為物理氣相沉積法（PVD），是基本的涂層制備技術。它們都要求淀積薄膜的空間要有一定的真空度。

鍍膜形成的薄膜的特性：表面光滑，膜層之間的界面呈幾何切割，膜層的折射率可以是在界面開始，但膜是連續(xù)的，能夠是通明介質(zhì)，也能夠是光學薄膜。

吸收介質(zhì)：能夠是法向均勻的，也能夠是法向不均勻的，實際需要使用的薄膜要比抱負薄膜進行復雜得多，這是因為，制備時，薄膜的光學系統(tǒng)性質(zhì)和物理化學性質(zhì)發(fā)生偏離大塊材料，其表面和界面是粗糙的，從而可以導致一個光束的漫散射，膜層之間的相互影響滲透形成一種擴散信息界面，因為膜層的成長、結(jié)構(gòu)、應力等原因，形成了薄膜的各向異性，膜層具有非常復雜的時刻效應。