放she自顯影的原理是什么：在應用這技術時先把含有放she性同位素的化合物引入生物體內，經過定時間后，將其組織取下，制成切片或涂片，然后將其與照相乳膠相接觸。由于放she性元素所產生的α粒子和β粒子能和可見光對照相乳膠發(fā)生作用，用普通照相技術進行顯影和定影，即可得到放she性同位素的正確位置。并根據放she性元素對乳膠作用的黑化程度，即乳膠上黑色銀粒的數量，測出物質的含量。在自顯影中，常用的同位素有氫碳磷硫碘碘等。

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曝光顯影工藝就是指利用物質這一特點，由高精度紫外平行光源通過掩膜版對涂有特定吸收波長的油墨進行紫外光照射，然后通過化學去除多余涂層，從而達到圖形轉印的過程稱之為曝光顯影工藝。

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曝光顯影提高板與板之間蝕刻速率的一致性在連續(xù)板蝕刻中，蝕刻速率越大，獲得的蝕刻板越均勻。為了滿足該要求，必須確保在整個蝕刻過程中蝕刻溶液始終保持佳蝕刻狀態(tài)。

曝光顯影這可通過控制溶解的銅量，pH值，溶液濃度，溫度和溶液流量（噴霧系統(tǒng)或噴嘴和噴嘴擺動）的均勻性來實現。