真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。 

真空鍍膜機工作的環(huán)境要求：       

真空鍍膜設備要在真空條件下工作，因此該設備要滿足真空對環(huán)境的要求。真空對環(huán)境的要求，一般包括真空設備對所處實驗室（或車間）的溫度、空氣中的微粒等周圍環(huán)境的要求，和對處于真空狀態(tài)或真空中的零件或表面要求兩個方面。

借助一種惰性氣體的輝光放電使金屬或合金蒸汽離子化。離子鍍包括鍍膜材料（如TiN，TiC）的受熱、蒸發(fā)、沉積過程。

蒸發(fā)的鍍膜材料原子在經(jīng)過輝光區(qū)時，一小部分發(fā)生電離，并在電場的作用下飛向工件，以幾千電子伏的能量射到工件表面，可以打入基體約幾納米的深度，從而大大提高了涂層的結(jié)合力，而未經(jīng)電離的蒸發(fā)材料原子直接在工件上沉積成膜。惰性氣體離子與鍍膜材料離子在工件表面上發(fā)生的濺射，還可以清除工件表面的污染物，從而改善結(jié)合力。

物理氣相沉積（PVD）是一項眾所周知的技術(shù)，廣泛應用于薄膜沉積，涉及許多方面，包括摩擦學性能改善，光學增強，視覺/美學提升以及許多其他領域，涉及范圍廣泛。已經(jīng)建立的應用程序。加工工具可能是該沉積技術(shù)的常見應用之一，有時與化學氣相沉積（CVD）結(jié)合使用，以延長其使用壽命，減少摩擦并改善熱性能。然而，CVD工藝在較高的溫度下進行，從而在涂層和基材中產(chǎn)生較高的應力，基本上僅在需要使用該工藝沉積所需的涂層時才使用。為了改進此技術(shù)，已進行了多項研究，以優(yōu)化PVD技術(shù)，方法是增加等離子體電離，減少暗區(qū)（反應器中沒有沉積物的區(qū)域），改善靶材的使用，提高原子轟擊效率，甚至提高沉積速率并優(yōu)化氣體選擇。

PVD是一種出色的真空鍍膜工藝，可改善耐磨性和耐腐蝕性。它對于功能性應用非常需要，例如工具，裝飾件，光學增強，模具，模具和刀片。這些只是各種各樣已經(jīng)建立好的應用程序的幾個例子。

此技術(shù)中使用的設備維護成本低，并且對環(huán)境無害。PVD涂層的好處很多。如PVD可以提供真正獨特的優(yōu)勢，從而增加產(chǎn)品的耐用性和價值。沉積技術(shù)在機加工過程中具有重要作用。

機加工工具可能是緊急的應用之一，需要一些特性，例如高溫下的硬度，高耐磨性，化學穩(wěn)定性，韌性和剛度。此外，PVD還能夠生產(chǎn)具有優(yōu)異附著力，均勻?qū)?，設計結(jié)構(gòu)，漸變特性，可控形態(tài)，材料和特性的高度多樣性的涂層。