300C有機(jī)無(wú)機(jī)聯(lián)合蒸發(fā)

主要用途： 　　

用于制備導(dǎo)電薄膜，半導(dǎo)體薄膜，鐵電薄膜，光學(xué)薄膜等。 　　

系統(tǒng)組成: 　　

該蒸鍍?cè)O(shè)計(jì)系統(tǒng)主要由真空抽氣及真空測(cè)量系統(tǒng)、真空室系統(tǒng)、工件架系統(tǒng)、蒸發(fā)源系統(tǒng)、膜厚測(cè)試系統(tǒng)、蒸發(fā)舟擋板系統(tǒng)、烘烤照明系統(tǒng)、水冷卻循環(huán)及報(bào)警系統(tǒng)、電控及控制系統(tǒng)、輔助系統(tǒng)等設(shè)計(jì)。 　　

技術(shù)指標(biāo)： 　　

極限真空度：≤6.7×10 Pa 　　

恢復(fù)真空時(shí)間：從1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min 　　

系統(tǒng)漏率：6. 7×10-7Pa.L/S； 　　

真空室：Ф400 x400mm圓筒型真空室 ， 　　

蒸發(fā)源：1-4個(gè)，采用電阻蒸發(fā)舟、蒸發(fā)藍(lán)、絞絲、束源爐至下向上蒸發(fā)鍍膜。 　

蒸發(fā)溫度：加熱溫度：室溫～1800℃； 　　

蒸發(fā)舟在距中心100～160mm的圓周上；蒸發(fā)舟可上下升降，調(diào)節(jié)幅度0～150mm（樣品中心與坩堝距離150~300mm）； 　

工作架類(lèi)型及尺寸：樣品托盤(pán)直徑Φ300mm，其上可放多個(gè)直徑20mm的小樣品；樣品托盤(pán)具有自轉(zhuǎn)功能，轉(zhuǎn)速在0～20 轉(zhuǎn)/分鐘，轉(zhuǎn)速可調(diào)；樣品托盤(pán)可擺角，角度在0～30度可調(diào)； 　　

烘烤溫度：400℃數(shù)顯自動(dòng)熱偶控溫（高溫爐盤(pán)，數(shù)顯自動(dòng)熱偶控溫可加熱到700℃） 　　

電阻蒸發(fā)源：電壓5V，10V，功率2.5KW，水冷電極1~4對(duì) 　　

石英晶振膜厚控制儀：膜厚測(cè)量范圍0-999999?

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有機(jī)熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)介紹

1. 真空室的極限真空度達(dá)5*10-5pa，漏率為關(guān)機(jī)12小時(shí)≤5pa

2. 真空腔內(nèi)配有集約樣品臺(tái)一套，配有大擋板和16套小擋板，手動(dòng)控制，開(kāi)關(guān)方便快捷，每個(gè)小擋板擋兩塊30*30mm樣片

3. 蒸發(fā)源共14套，其中10套有機(jī)蒸發(fā)源，4套金屬蒸發(fā)源?？販?span style="text-indent:2em;font-size:12px;">精度±1℃，可以實(shí)現(xiàn)溫度或電流補(bǔ)償實(shí)現(xiàn)蒸鍍速率穩(wěn)定的功能

4. 金屬蒸發(fā)源配4臺(tái)一帶一1000W可控硅調(diào)壓電源，通過(guò)銅電極連接，兩端可夾鎢絞絲或者鉭舟，鎢絞絲可以蒸鍍絲狀或者大顆粒材料，鉭舟可以蒸鍍粉末狀材料，蒸發(fā)源采用陶瓷全密封，避免交叉污染

5. 有機(jī)蒸發(fā)源配10臺(tái)一帶一溫控電源，有機(jī)源溫度為室溫-500度，可以根據(jù)材料及用戶(hù)需求自行調(diào)節(jié)

6. 樣品臺(tái)具有旋轉(zhuǎn)、升降功能，可在線更換掩膜板一次，可同時(shí)裝載30mm*30mm樣品16塊。本產(chǎn)品每?jī)蓚€(gè)樣品都配有小擋板，并且通過(guò)PLC控制步進(jìn)電機(jī)對(duì)每個(gè)小擋板做16個(gè)定位，使機(jī)械手推拉小擋板，樣品與蒸發(fā)源之間的間距為200-300mm

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