什么是蝕刻標(biāo)牌？

蝕刻標(biāo)牌是指金屬標(biāo)牌的圖片與金屬表面不在同一個(gè)表面，并以蝕刻的方式而制成。它可以是保留圖文，將圖文以外的區(qū)域蝕刻成下凹，稱為陽文蝕刻，或反蝕刻；也可以保留原材料的表面，使圖文區(qū)域蝕刻成下凹，稱為陰文蝕刻。

蝕刻標(biāo)牌有圖文的性，常用于機(jī)械設(shè)備標(biāo)牌和一些使用環(huán)境惡劣而需要作耐久性標(biāo)識(shí)的場(chǎng)合。

蝕刻標(biāo)牌是傳統(tǒng)性的標(biāo)牌。一直業(yè)內(nèi)大家都習(xí)慣稱它為腐蝕標(biāo)牌。鉻酐在電鍍鉻溶液中不僅起到穩(wěn)定鍍液的作用，而且對(duì)ph也有一定的緩沖作用，從而使得鍍層厚度可持續(xù)增加。有人說叫它腐蝕標(biāo)牌不是很妥切，因?yàn)楦g一詞多指金屬在自然條件下所遭受的破壞行為的一種結(jié)果；而蝕刻則是一種有意識(shí)、有選擇性的，為達(dá)到預(yù)期目的而實(shí)施的一種刻意行為。但不管怎樣，這種工藝過程，卻經(jīng)歷了二十多年的發(fā)展，直到目前為止，還不能完全取消這種傳統(tǒng)工藝。

鏤空產(chǎn)品的細(xì)線條應(yīng)在基材厚度的 1.2 倍以上； 表面蝕刻產(chǎn)品的細(xì)線條間隔應(yīng)在 0.16mm 左右， 這在 0.16mm 當(dāng)中黑線與白地的比例視反光度不同可作成 1∶3、2∶2、2∶1。雙面蝕刻產(chǎn)品的正反菲林片四周應(yīng)有清晰準(zhǔn)確的對(duì)準(zhǔn)十字線， 且正反兩張片都要藥膜帖近基材。 （以銅板為例） 板材正面用 2400 轉(zhuǎn)/分布輪拋光， 1.2 板材處理 達(dá)到鏡面效果，然后去臘、除油、清洗、干燥待用。 1.3 網(wǎng)印光致成像感光膠 因?yàn)橹谱鲌D案極細(xì)。蝕刻就是在它的上面進(jìn)行加工，一起來看看金屬標(biāo)牌蝕刻突破瓶頸的模式吧。顯影后無法修補(bǔ)，因此選擇好的感光膠尤 為重要。我公司選用高氏（coates）光致成像耐蝕油墨，在黃光或 紅光下用 200 目絲網(wǎng)滿版印刷， 頭次印拋光面， 100℃烘 15 分鐘， 第二次印反面，再用 100℃烘 30 分鐘，待冷卻，表面不粘手，方可 進(jìn)行曝光。 1.4 曝光 吸氣哂版機(jī)曝光。曝光時(shí)間 20－100 秒不等，線條越細(xì)，曝光 時(shí)間越長(zhǎng)，反之則短。 1.5 顯影 用 3－5%碳酸鈉水溶液顯影， 水溫在 50℃左右， 水泡數(shù)秒鐘后， 用軟羊毛刷輕輕將水溶液刷除，然后清水漂洗二次，達(dá)到完全沒有殘 留膠為止。將濕銅板直接進(jìn)行蝕刻，也可晾干后再行蝕刻。

蝕刻是在光刻過的基片上可通過濕刻（wet etching）和干刻（dry etching）等方法將 阻擋層上的平面二維圖形加工成具有一定深度的立體結(jié)構(gòu)。選用適當(dāng)?shù)奈g刻劑，使 它對(duì)光膠、薄膜和基片材料的腐蝕速度不同，可以在薄膜或基片上產(chǎn)生所需的微結(jié) 構(gòu)。 ? 復(fù)雜的微結(jié)構(gòu)可通過多次重復(fù)薄膜沉積－光刻－蝕刻這三個(gè)工序來完成。蝕刻設(shè)備的維護(hù)維護(hù)蝕刻設(shè)備的最關(guān)鍵因素就是要保證噴嘴的高清潔度及無阻塞物,使噴嘴能暢順地噴射。微流控基片通過預(yù)處理，涂膠，前烘，曝光，顯影及堅(jiān)膜，去膠等步驟后，材料上 呈現(xiàn)所需要的圖形，即通道網(wǎng)絡(luò)。 蓋板與微流控芯片基片的封接 ? 基片和蓋板封接后形成封閉的小池，可用來儲(chǔ)存試劑或安裝電極。