相對濕度越高,粘附的難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產(chǎn)溫度范圍為35—45%。1000級 一般只對塵埃濃度做要求，用于光學器件，儀器等高精儀器等10000級，用于液壓設備的生產(chǎn)，和一些食品飲料的生產(chǎn)。100000級，這個級別比較的低，對凈化度要求不是很高，主要在印刷廠，包裝廠等。潔凈室中的溫濕度控制。潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到 人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。

地面可采用環(huán)氧自流坪地坪或耐磨塑料地板，有防靜電要求的，要選用防靜電型。送回風管道一般用鍍鋅鋼板，不宜選用玻璃棉類材料保溫。照明應選用凈化車間燈具。而隨著凈化技術(shù)的發(fā)展，建設凈化車間的技術(shù)含量也越來越高，非專業(yè)人士不能也。除了在生產(chǎn)領域，凈化工程技術(shù)還會逐漸應用于家庭、公共場合，為人們提供更潔凈的生活空間1級：塵埃易使芯片失效或者穩(wěn)定性下降，當金屬塵埃落于集成電路上時，就可能造成短路。當空氣中的酸性離子落在電路上時，可能將電路腐蝕，因此凈化空調(diào)系統(tǒng)對微電子工業(yè)而言至關重要。此外，液晶、光纖的生產(chǎn)也需要1級潔凈度的要求。

直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導體車間，這種車間不宜超過25度。我們國家的空氣分子控制等的技術(shù)正在朝有利的方向發(fā)展，這項技術(shù)原先是由日本發(fā)展起來的，現(xiàn)在已經(jīng)受到了全世界的關注和認可，在我們國家，這項技術(shù)已經(jīng)受到了相關行業(yè)的重視并且投入研發(fā)，相信在不久的未來，我們國家的相關科研人員一定會在這個領域取得讓人滿意的成績，為我們國家的凈化工程行業(yè)做出貢獻。潔凈空間的壓力要高于非潔凈空間的壓力。潔凈度級別高的空間的壓力要高于相鄰的潔凈度級別低的空間的壓力。相通潔凈室之間的門要開向潔凈度級別高的房間"