影響離子鍍膜層質(zhì)量的工藝參數(shù)

①基片偏壓.

離子鍍膜基片施加負(fù)偏壓后；各種離子和高能中性粒子流以較高的能量轟擊基片表面．基片負(fù)偏壓的提高，會(huì)使基片表面獲得更高的能量，可能形成偽擴(kuò)散層，提高膜層與基體的附著力，還可以改變膜層的組織、結(jié)構(gòu)和性能，如細(xì)化晶粒，圖2表明，隨著基片負(fù)偏壓的提高，膜層組織變細(xì)，但是，基片負(fù)偏壓的提高也會(huì)產(chǎn)生一些不利的影響，如反濺射作用的增加，使膜層表面受到刻蝕，使表面光潔程度降低，圖3表明了空心陰極離子鍍鉻時(shí)，基片負(fù)偏壓對(duì)鉻膜表面光澤度的影響，基片負(fù)偏壓的提高還會(huì)使沉積速率降低，使基片溫度升高，圖4表明了電弧離子鍍tin膜基片負(fù)偏壓對(duì)沉積速率的影響，因此，應(yīng)根據(jù)不同的離子鍍方法、不同的膜層及使用要求選擇適當(dāng)?shù)幕?fù)偏壓。

②鍍膜真空度和反應(yīng)氣體分壓.

離子鍍膜真空度對(duì)膜層組織、性能的影響與真空蒸鍍時(shí)的影響規(guī)律相似，但反應(yīng)氣體分壓對(duì)反應(yīng)離子鍍鍍制化合物膜的成分、結(jié)構(gòu)和性能有直接的影響，圖5是hcd離子鍍tin膜的硬度與氮?dú)夥謮旱年P(guān)系，因此反應(yīng)氣體的分壓應(yīng)根據(jù)離子鍍方法，化合物膜層的成分、性質(zhì)、使用要求以及設(shè)備來(lái)選擇

③基片溫度.

離子鍍膜基片溫度的高低直接影響著膜層的組織、結(jié)構(gòu)和性能。一般情況下，溫度的升高有利于提高膜層與基片的附著力，有利于改善膜層的組織與性能。但是，溫度過高，則會(huì)使沉積速率降低，有時(shí)還會(huì)使膜層晶粒粗大，性能變壞；圖6中hcd離子鍍鉻膜顯微硬度受基片溫度影響的規(guī)律。另外，基片溫度的選擇還要受基片材料性質(zhì)的限制，如鋼材的回火溫度等

④蒸發(fā)源功率．

蒸發(fā)源功率對(duì)蒸發(fā)速率有直接的影響，進(jìn)而影響沉積速率，影響膜層的組織、性能，對(duì)反應(yīng)沉積化合膜時(shí)蒸發(fā)源功率也將影響膜層的成分。

為了獲得所需性能的膜層，應(yīng)綜合分析、考慮各種因素，迭擇鍍膜方法和確定合理的鍍膜工藝參數(shù)。

光學(xué)真空鍍膜機(jī)光學(xué)鍍膜特點(diǎn)分類

光學(xué)真空鍍膜機(jī)的光學(xué)鍍膜特點(diǎn)有哪些呢？很多人很好奇，畢竟是真空鍍膜行業(yè)的新技術(shù)，已經(jīng)廣泛用于數(shù)碼科技，傳統(tǒng)銀鏡，科學(xué)儀器，光通信，半導(dǎo)體，新能源等行業(yè)，獲眾多廠商認(rèn)可，并大量投入使用。那么光學(xué)真空鍍膜機(jī)光學(xué)鍍膜特點(diǎn)分哪幾種類型呢？下面為大家詳細(xì)介紹一下：

主要的光學(xué)真空鍍膜機(jī)光學(xué)薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等等，它們?cè)趪?guó)民經(jīng)濟(jì)和建設(shè)中得到廣泛的應(yīng)用，獲得了科學(xué)技術(shù)工作者的日益重視。例如采用減反射膜后可使復(fù)雜的光學(xué)鏡頭的光通量損失成十倍的減小;采用高反射膜比的反射鏡可使激光器的輸出功率成倍提高;利用光學(xué)薄膜可提高硅電池的效率和穩(wěn)定性。

簡(jiǎn)單的光學(xué)薄膜模型是表面光滑、各向同性的均勻介質(zhì)膜層。在這種情況下，可以用光的干涉理論來(lái)研究光學(xué)薄膜的光學(xué)性質(zhì)。當(dāng)一束單色光平面波入射到光學(xué)薄膜上時(shí)，在它的兩個(gè)表面上發(fā)生多次反射和折射，反射光和折射光的方向有反射定律和折射定律給出，反射光合折射光的振幅大小則有菲涅爾公式確定。

真空PVD鍍膜涂層工藝?yán)鋮s如何進(jìn)行？

1.高閥關(guān)閉，真空計(jì)關(guān)閉，真空室與泵組隔離；

2.當(dāng)操作人員按下N2vent按鈕，預(yù)先接好的氮?dú)鈺?huì)通過N2充氣閥充入真空室，當(dāng)真空室內(nèi)的壓力達(dá)到壓力開關(guān)預(yù)設(shè)的壓力時(shí)，N2充氣閥關(guān)閉。

3.真空室內(nèi)充入了大量N2，真空度很低，更加有利于熱傳導(dǎo)，所以降溫速度比不充冷卻N2時(shí)快很多，縮短冷卻時(shí)間，提高生產(chǎn)效率，實(shí)際冷卻時(shí)間可由原來(lái)的90分鐘縮短為60分鐘。

4.由于氦氣的熱傳導(dǎo)率更高，所以充入冷卻氦氣比氮?dú)饨禍厮俣雀欤浅杀疽哺摺?

5.國(guó)外設(shè)備快速冷卻程序，通過冷卻氣體的循環(huán)冷卻，能縮短冷卻時(shí)間50%。

為什么要進(jìn)行壓升率測(cè)試？

真空環(huán)境條件是影響終涂層質(zhì)量重要的因素。鍍膜前，必須進(jìn)行壓升率測(cè)試，以保證真空環(huán)境條件滿足鍍膜標(biāo)準(zhǔn)。

怎樣進(jìn)行壓升率測(cè)試？

在我們的自動(dòng)鍍膜工藝中，壓升率測(cè)試是自動(dòng)進(jìn)行。當(dāng)真空室內(nèi)真空度達(dá)到工藝設(shè)定的本底真空后，進(jìn)入壓升率測(cè)試步驟。

系統(tǒng)會(huì)自動(dòng)關(guān)閉高閥，此時(shí)真空室與泵組隔離，真空室內(nèi)壓力會(huì)升高。在一定時(shí)間內(nèi)（一般1分鐘），如果壓力不超過設(shè)定的報(bào)警值，系統(tǒng)會(huì)自動(dòng)進(jìn)行下一步程序，進(jìn)入鍍膜步驟。如果壓力超過設(shè)定的報(bào)警值，系統(tǒng)會(huì)有報(bào)警提示，此時(shí)，操作人員應(yīng)按照操作流程，再次進(jìn)行抽真空和加熱烘烤，然后重復(fù)進(jìn)行壓升率測(cè)試，直至壓升率滿足鍍膜條件。

PVD真空鍍膜機(jī)能鍍哪些物件和顏色?

我們生活離不開炫彩靚麗的工具和物件，然后這些看起來(lái)視覺效果美觀的工具和物件，都是通過鍍了一層薄薄的膜，才能實(shí)現(xiàn)這樣的效果，大到飛機(jī)、航母，小到家庭餐具、手表，可以說鍍膜工藝，無(wú)處不在。隨著人們的生活水平不斷的提高，對(duì)鍍膜工藝要求也就越來(lái)越高。之前鍍膜是通過傳統(tǒng)的水鍍方式來(lái)實(shí)現(xiàn)的，現(xiàn)在PVD真空鍍膜機(jī)鍍膜工藝，被更多的人認(rèn)可和追隨。有很多人很疑惑，為什么PVD真空鍍膜被那么多人認(rèn)可，它到底有什么優(yōu)勢(shì)？今天至成真空小編為大家詳細(xì)講些：

PVD技術(shù)出現(xiàn)于二十世紀(jì)七十年代末，制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數(shù)、很好的耐磨性和化學(xué)穩(wěn)定性等優(yōu)點(diǎn)。它主要是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場(chǎng)的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。起初的時(shí)候后在高速刀具領(lǐng)域的成功應(yīng)用引起了世界各國(guó)制造業(yè)的高度重視，人們?cè)陂_發(fā)、高可靠性涂層設(shè)備的同時(shí)，也在硬質(zhì)合金、陶瓷類刀具中進(jìn)行了更加深入的涂層應(yīng)用研究。

與CVD工藝相比，PVD工藝處理溫度低，在600℃以下時(shí)對(duì)刀具材料的抗彎強(qiáng)度無(wú)影響；薄膜內(nèi)部應(yīng)力狀態(tài)為壓應(yīng)力，更適于對(duì)硬質(zhì)合金精密復(fù)雜刀具的涂層；PVD工藝對(duì)環(huán)境無(wú)不利影響，符合現(xiàn)代綠色制造的發(fā)展方向。當(dāng)前PVD涂層技術(shù)已普遍應(yīng)用于硬質(zhì)合金立銑刀、鉸刀、絲錐、鉆頭、階梯鉆、油孔鉆、可轉(zhuǎn)位銑刀片、車刀片、異形刀具、焊接刀具等的涂層處理。

那么PVD能鍍出哪些顏色呢？據(jù)了解PVD鍍膜機(jī)鍍膜工藝目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色，淺金黃色，咖啡色，古銅色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。在鍍膜的過程中通過調(diào)控相關(guān)參數(shù)，可以控制鍍出的顏色;鍍膜結(jié)束后可以用相關(guān)的儀器對(duì)顏色值進(jìn)行測(cè)量，使顏色得以量化，以確定所鍍出的顏色是否滿足要求。