離子真空鍍膜機鍍膜應(yīng)用范圍介紹

近很多客戶關(guān)于離子真空鍍膜機相關(guān)知識，問的問題各不相同，但是從這些問題里面能發(fā)現(xiàn)一個問題，客戶對離子鍍膜機相關(guān)知識了解甚少，只是停留在基礎(chǔ)表面，因此在和我們溝通的過程中，會出現(xiàn)溝通不是很順利，因為我們需要詳細的介紹很多專業(yè)性的問題。今天至成真空小編趁著這個機會，為大家詳細介紹一下離子真空鍍膜機鍍膜應(yīng)用范圍，這樣大家以后也知道離子真空鍍膜機后期能運用到哪些行業(yè)，及離子鍍膜機能鍍什么產(chǎn)品。

1、離子真空鍍膜機鍍膜的應(yīng)用范圍：半導(dǎo)體集成電路、光導(dǎo)纖維、太陽能電池、太陽能熱水器、太陽灶、光盤、磁盤、敏感元件、平板顯示器、選擇吸收玻璃、智能窗玻璃、人體植入部件等功能薄膜；

2、離子鍍膜技術(shù)應(yīng)用范圍：工模具超硬涂層、航天軸承、機械零件；汽輪機葉片的耐蝕涂層；裝飾件、手機配件。

3、離子鍍薄膜的膜層結(jié)構(gòu)：單源單層：氮化鈦涂層TiN、TiC、ZrN、CrN、AlN等。硬度約1800—2600Hv；多元單層：TiCN、TiAlN等。硬度2200—2800Hv；復(fù)合涂層：TiN/TiCN、TiN/TiCN/TiN、TiN/ZrN、TiN/CrN、TiN/AlN、TiN/C3N4、TiN/C3N4/DLC等。硬度3500—4500Hv；

4、納米結(jié)構(gòu)涂層；多層膜中的每一層厚度為nm,也稱之為“調(diào)制周期”。各層可以是化合物/化合物，也可以是金屬非晶/納米金屬化合物，如：nc-TiN/a-Si3N4、Ti-Al-N、Ti-B-N等。調(diào)制周期6.8—30nm，硬度可達4700—10000Hv（47—100GPa）。要求鍍膜機的配置能夠滿足沉積薄膜的厚度為0.2—5μm的納米多層膜。

不同類型鍍膜機的適用范圍是怎樣的呢？

磁控濺射鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于信息存儲領(lǐng)域，如磁信息存儲、磁光信息存儲等。磁控濺射鍍膜機：應(yīng)用于防護涂層，如飛機發(fā)動機的葉片、汽車鋼板、散熱片等。磁控濺射鍍Al膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于太陽能利用領(lǐng)域，如太陽能集熱管、太陽能電池等。光學(xué)鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于光學(xué)薄膜領(lǐng)域，如增透膜、高反膜、截止濾光片、防偽膜等。

AZO透明導(dǎo)電膜磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于信息顯示領(lǐng)域，如液晶屏、等離子屏等。觸摸屏連續(xù)式鍍膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于觸摸屏領(lǐng)域，如手機、電腦、MP4等數(shù)碼產(chǎn)品屏幕等。磁控中頻多弧離子鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于硬質(zhì)涂層，如切削工具、模具和耐磨耐腐蝕零件等。PECVD磁控生產(chǎn)線：應(yīng)用于集成電路制造，如薄膜電阻器、薄膜電容器、薄膜溫度傳感器等。蒸發(fā)式真空鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于在裝飾飾品上，如手機殼、表殼、眼鏡架、五金、小飾品等鍍膜。低輻射玻璃鍍膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于建筑玻璃方面，如陽光控制膜、低輻射玻璃、防霧防露和自清潔玻璃等。抗反射導(dǎo)電膜連續(xù)磁控濺射生產(chǎn)線：應(yīng)用于電子產(chǎn)品領(lǐng)域，如液晶顯示器、液晶電視、MP4、車載顯示、手機顯示、數(shù)碼相機和掌聲電腦等。

真空PVD鍍膜涂層工藝?yán)鋮s如何進行？

1.高閥關(guān)閉，真空計關(guān)閉，真空室與泵組隔離；

2.當(dāng)操作人員按下N2vent按鈕，預(yù)先接好的氮氣會通過N2充氣閥充入真空室，當(dāng)真空室內(nèi)的壓力達到壓力開關(guān)預(yù)設(shè)的壓力時，N2充氣閥關(guān)閉。

3.真空室內(nèi)充入了大量N2，真空度很低，更加有利于熱傳導(dǎo)，所以降溫速度比不充冷卻N2時快很多，縮短冷卻時間，提高生產(chǎn)效率，實際冷卻時間可由原來的90分鐘縮短為60分鐘。

4.由于氦氣的熱傳導(dǎo)率更高，所以充入冷卻氦氣比氮氣降溫速度更快，但是成本也更高。

5.國外設(shè)備快速冷卻程序，通過冷卻氣體的循環(huán)冷卻，能縮短冷卻時間50%。

為什么要進行壓升率測試？

真空環(huán)境條件是影響終涂層質(zhì)量重要的因素。鍍膜前，必須進行壓升率測試，以保證真空環(huán)境條件滿足鍍膜標(biāo)準(zhǔn)。

怎樣進行壓升率測試？

在我們的自動鍍膜工藝中，壓升率測試是自動進行。當(dāng)真空室內(nèi)真空度達到工藝設(shè)定的本底真空后，進入壓升率測試步驟。

系統(tǒng)會自動關(guān)閉高閥，此時真空室與泵組隔離，真空室內(nèi)壓力會升高。在一定時間內(nèi)（一般1分鐘），如果壓力不超過設(shè)定的報警值，系統(tǒng)會自動進行下一步程序，進入鍍膜步驟。如果壓力超過設(shè)定的報警值，系統(tǒng)會有報警提示，此時，操作人員應(yīng)按照操作流程，再次進行抽真空和加熱烘烤，然后重復(fù)進行壓升率測試，直至壓升率滿足鍍膜條件。