Parylene涂層是在室溫下在元件上自發(fā)形成的

Parylene涂層是在室溫下在元件上自發(fā)形成的，不需要經(jīng)升溫固化過程，不需要對基材施加室溫以上的溫度和更多的時間來讓膜生長。由于這種聚合物是自發(fā)的不需要催化劑。 促進(jìn)聚合的催化劑通常是離子或離子化合物，固化后它們會多少殘留一些在涂層里。這些殘留的物質(zhì)能參與電荷的遷移，在一定程度上影響涂層的電性能。又由于Parylene涂層是在室溫下形成的，因此可以防止主要因室溫和固化溫度變化不同由熱膨脹引起的應(yīng)力問題。

       隨著信息產(chǎn)業(yè)的不斷發(fā)展，磁性元件越來越趨向于小型化，3-5㎜的軟磁芯，2-3㎜的稀土永磁材料，甚至尺寸更小的磁材都不斷被應(yīng)用，對磁材的防護(hù)提出了新的要求。小型軟磁芯作饒線器件時，經(jīng)聚對二涂敷后能耐1500-2000V甚至更高的電壓，由于聚對二摩擦系數(shù)低，饒成操會更滑溜，不傷線，更便于操作，稀土釹鐵硼永磁材料是一種強磁材料。

        Parylene用du特的真空氣相沉積工藝制備，由活性小分子在基材表面“生長”出完全敷形的聚合物薄膜涂層，具有其他涂層難以比擬的性能優(yōu)勢。它能涂敷到各種形狀的表面，包括尖銳的棱邊，裂縫里和內(nèi)表面。

涂層厚度可控制：

1.涂層厚度取決于原料消耗量及氣體單體在沉積腔內(nèi)的駐留時間;

2.通常的沉積速率為0.5-5um/hour,與沉積溫度,自由基濃度有關(guān)。