與普通的陽極氧化膜相比， 微弧氧化膜的空隙小，空隙率低，與基質(zhì)結(jié)合緊密， 且在耐蝕、耐磨性能等方面得到了很大的提高。微弧氧化技術(shù)生成的膜層綜合性能優(yōu)良，與基體結(jié)合牢固, 且工藝簡單，對(duì)環(huán)境污染小, 目前對(duì)其生長規(guī)律、生長機(jī)理和影響因素等已經(jīng)有了較為深入的研究, 在工業(yè)上得到了一定的應(yīng)用, 是一種具有發(fā)展?jié)摿Φ逆V合金表面處理技術(shù)。微弧氧化技術(shù)在現(xiàn)代工業(yè)中應(yīng)用匯越來越廣泛。微弧氧化工藝的整流電源特點(diǎn)：操作方式:本控遠(yuǎn)控操作模式可選擇。

       微弧氧化除了所需電功率較大之外，微弧氧化工藝實(shí)際上并不算復(fù)雜，所使用的gui酸鹽、磷酸鹽、硼酸鹽等電解質(zhì)是環(huán)保無毒的，對(duì)鋁材的要求也不高，不管是 6000系的航空級(jí)鋁材，還是難以陽極氧化的含銅、含gui鋁材都可以進(jìn)行微弧氧化，并且能得到理想的陶瓷結(jié)晶層。微弧氧化在處理過程中會(huì)自動(dòng)對(duì)制品表面進(jìn)行拋光處理，一些粗糙的制品表面可以修復(fù)得平整光滑，在一定程度上也節(jié)省了后期成本。3、允許溫度變化范圍寬，電解液允許的溫度范圍一般為10-70℃。

       由于鎂合金微弧陶瓷復(fù)合處理技術(shù)繼承了微弧氧化工藝的普遍優(yōu)點(diǎn)，無需對(duì)工件進(jìn)行復(fù)雜的前處理，大大減少了污水排放，而且處理過程中無環(huán)保限制元素加入，實(shí)現(xiàn)了對(duì)環(huán)境的零污染。另微弧復(fù)合處理周期短，生產(chǎn)及日常維護(hù)成本低廉，可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)控制生產(chǎn)，生產(chǎn)并且極大節(jié)約了人力資源成本，使其規(guī)?；b備制造業(yè)已無后顧之憂。只是如果有特殊要求，可以提出，整體加以調(diào)制，在滿足特殊需求的基礎(chǔ)上使膜層整體具有良好性能。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化工藝

       微弧氧化技術(shù)是在陽極氧化基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一項(xiàng)新技術(shù)，是在含有特定離子的電解液中，通過弧光放電處理和電化學(xué)氧化的共同作用，在鋁、鎂、鈦等有色金屬及其合金材料表面原位產(chǎn)生一層與基體結(jié)合良好的陶瓷層的表面處理技術(shù)，膜層具有耐蝕性能高、硬度高、耐磨性能好、高阻抗、絕熱性能好等特點(diǎn)。微弧氧化技術(shù)是北京師范大學(xué)核科學(xué)與技術(shù)學(xué)院（低能核物理研究所）（北京市輻射中心）1992年起開發(fā)的科研課題，先后得到國家教委、國家九五863高技術(shù)研究發(fā)展計(jì)劃、國家自然科學(xué)基jin的大力支持。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)