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NR7 6000PY光刻膠廠家服務(wù)為先「賽米萊德」

發(fā)布時(shí)間:2021-09-10 05:27  

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光刻膠市場(chǎng)

我國(guó)光刻膠市場(chǎng)規(guī)模2015年已達(dá)51.7億元,同比增長(zhǎng)11%,高于國(guó)際市場(chǎng)增速,但全球占比仍不足15%,發(fā)展空間巨大。2015年我國(guó)光刻膠產(chǎn)量為9.75萬(wàn)噸,而需求量為10.12萬(wàn)噸,依照需求量及產(chǎn)量增速預(yù)計(jì),未來(lái)仍將保持供不應(yīng)求的局面。據(jù)智研咨詢估計(jì),得益于我國(guó)平面顯示和半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,我國(guó)光刻膠市場(chǎng)需求,在2022年可能突破27.2萬(wàn)噸。在光刻膠生產(chǎn)種類(lèi)上,我國(guó)光刻膠廠商主要生產(chǎn)PCB光刻膠,而LCD光刻膠和半導(dǎo)體光刻膠生產(chǎn)規(guī)模較小,相關(guān)光刻膠主要依賴(lài)進(jìn)口。放眼國(guó)際市場(chǎng),光刻膠也主要被美國(guó)Futurrex 的光刻膠、日本合成橡膠(JSR)、東京應(yīng)化(TOK)、住友化學(xué)、美國(guó)杜邦、德國(guó)巴斯夫等化工寡頭壟斷。正性光刻膠比負(fù)性的精度要高,負(fù)膠顯影后圖形有漲縮,負(fù)性膠限制在2~3μm。


光刻膠國(guó)內(nèi)研發(fā)現(xiàn)狀

“造成與國(guó)際水平差距的原因很多。過(guò)去由于我國(guó)在開(kāi)始規(guī)劃發(fā)展集成電路產(chǎn)業(yè)上,布局不合理、不完整,特別是生產(chǎn)加工環(huán)節(jié)的投資,而忽視了重要的基礎(chǔ)材料、裝備與應(yīng)用研究。目前,整個(gè)產(chǎn)業(yè)是中間加工環(huán)節(jié)強(qiáng),前后兩端弱,核心技術(shù)至今被TOK、JSR、住友化學(xué)、信越化學(xué)等日本企業(yè)所壟斷。兩種標(biāo)準(zhǔn)對(duì)超凈高純化學(xué)品中金屬雜質(zhì)和(塵埃)微粒的要求各有側(cè)重,分別適用于不同級(jí)別IC的制作要求。

光刻膠的主要技術(shù)指標(biāo)有解析度、顯影時(shí)間、異物數(shù)量、附著力、阻抗等。每一項(xiàng)技術(shù)指標(biāo)都很重要,必須全部指標(biāo)達(dá)到才能使用。因此,國(guó)外企業(yè)在配方、生產(chǎn)工藝技術(shù)等方面,對(duì)中國(guó)長(zhǎng)期保密。中國(guó)的研發(fā)技術(shù)有待進(jìn)一步發(fā)展



PR1-1500A1NR7 6000PY光刻膠廠家

正性光刻膠的金屬剝離技術(shù)

正性膠的金屬剝離工藝對(duì)于獲得難腐蝕金屬的細(xì)微光刻圖形比常規(guī)的光刻膠掩蔽腐蝕法顯示了優(yōu)越性。本文首先對(duì)金屬剝離工藝中的正、負(fù)光刻膠的性能作了對(duì)比分析。認(rèn)為正性光刻膠除圖形分辨率高而適應(yīng)于微細(xì)圖形的掩膜外,它還具有圖形邊緣陡直, 去膠容易等獨(dú)特性能,比負(fù)性光刻膠更有利于金屬剝離工藝。然后給出了具體的工藝條件,并根據(jù)正性光刻膠的使用特點(diǎn)指出了工藝中的關(guān)鍵點(diǎn)及容易出現(xiàn)的問(wèn)題。如正性光刻膠同GaAs表面的粘附性較差,這就要求對(duì)片子表面的清潔處理更為嚴(yán)格。為了高止光刻圖形的漂移控制光刻圖形的尺寸,對(duì)曝光時(shí)同特別是顯影液溫度提出了嚴(yán)格的要求。由于工藝中基本上不經(jīng)過(guò)腐蝕過(guò)程,膠膜的耐腐蝕性降到了次要地位。首先光刻膠被從容器中取出滴布到置于涂膠機(jī)中的樣品表面,(由真空負(fù)壓將樣品固定在樣品臺(tái)上),樣品然后高速旋轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速由膠粘度和希望膠厚度確定。


NR9-3000PY

11.請(qǐng)教~有沒(méi)有同時(shí)可以滿足RIE

process 和Lift-off

process的光阻,謝謝!

A 我們推薦使用Futurrex

NR1-300PY來(lái)滿足以上工藝的需求。

12.Futurre光刻膠里,有比較容易去除的負(fù)光阻嗎?

A NR9-系列很容易去除,可以滿足去膠需要。

13.我們目前用干膜做窄板,解析度不夠,希望找到好的替代光阻?

A NR9-8000因?yàn)橛泻芨叩腁R比例,適合取代,在凸塊的應(yīng)用上也有很大的好處。

14.傳統(tǒng)的Color

filter 制程,每個(gè)顏色的烘烤時(shí)間要2-3個(gè)小時(shí),有沒(méi)有更快的方法制作Coior

filter?

A 用于Silylation制程------烘烤時(shí)間只需要2分鐘,同時(shí)光阻不需要Reflow, 顏色也不會(huì)老化改變,只需要在Filter上面加熱溶解PR1-2000S光阻,Microlenses就能形成!

15.請(qǐng)問(wèn)有專(zhuān)門(mén)為平坦化提供材料的公司嗎?

A 美國(guó)Futurrex公司,專(zhuān)門(mén)生產(chǎn)應(yīng)用化學(xué)品的,可以為平坦化的材料提供PC3-6000和PC4-1000都是為平坦化用途設(shè)計(jì),臺(tái)灣企業(yè)用的比較多。

16.我需要一種可用于鋼板印刷的方式來(lái)涂布PROTECTIVE

COATING,那種適合??

A 推薦美國(guó)Futurrex,PC4-10000。

17.臘是用來(lái)固定芯片的,但很難清洗干凈,哪里有可以替代的產(chǎn)品介紹下,謝謝?

A 我們公司是使用Futurrex

PC3-6000,可以替代的,而且去除比較容易,你可以試用下。

18.請(qǐng)問(wèn)有沒(méi)有100微米厚襯底為鍍鎳硅并可用與MEMS應(yīng)用的光刻膠嗎?

A NR4-8000P可以做到140微米的厚度,并在鍍鎳的襯底上不會(huì)出現(xiàn)難去膠的問(wèn)題,如果是其他非鍍鎳襯底NR9-8000P是適合的選擇。

19.誰(shuí)有用在光波導(dǎo)圖案的光刻膠?是否可以形成角度為30度的側(cè)壁?

A 你必須實(shí)現(xiàn)通過(guò)逐步透光來(lái)實(shí)現(xiàn)掩膜圖案棱的印刷,NR4-8000P是專(zhuān)門(mén)為光波導(dǎo)圖案應(yīng)用進(jìn)行設(shè)計(jì)的產(chǎn)品。