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脈沖激光沉積裝置廠家專業(yè)團隊在線服務(wù)「多圖」

發(fā)布時間:2020-12-16 10:14  

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PLD450型脈沖激光鍍膜介紹

沈陽鵬程真空技術(shù)有限責任公司——專業(yè)脈沖激光沉積供應(yīng)商,我們?yōu)槟鷰硪韵滦畔ⅰ?

主要用途:  

用于制備超導薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、超硬薄膜等。適用于各大專院校、科研院所進行薄膜材料的科研與小批量制備?! ?

系統(tǒng)組成:  

主要由濺射真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。  



脈沖激光沉積介紹

脈沖激光沉積也被稱為脈沖激光燒蝕(pulsed laser ablation,PLA),是一種利用激光對物體進行轟擊,然后將轟擊出來的物質(zhì)沉淀在不同的襯底上,得到沉淀或者薄膜的一種手段。

以上就是為大家介紹的全部內(nèi)容,希望對大家有所幫助。如果您想要了解更多脈沖激光沉積的知識,歡迎撥打圖片上的熱線聯(lián)系我們。



PLD脈沖激光沉積系統(tǒng)介紹

PLD是將脈沖激光透過合成石英窗導入真空腔內(nèi)照射到成膜靶上,靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態(tài),然后被堆積到設(shè)在對面的基板上而成膜。PLD方法可以獲得擁有熱力學理論上準穩(wěn)定狀態(tài)的組成和構(gòu)造的人工合成新材料。

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