真空鍍膜機的真空室設計方法

真空鍍膜技術是在真空條件下采用物理或者化學方法，使物體表面獲取所需膜體，真空鍍膜技術根據(jù)其采用方法的不同科分成蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積以及分子束外延等，這次分析的鍍膜設備采用的是磁控濺射鍍膜。

真空室是真空設備的一個主要組成部位，真空鍍膜設備真空室設計主要考慮的就是密封性和可靠性，結構必須要合理，真空設備的材料生產(chǎn)都是在真空室內進行的，材料對真空度的影響要小，設計不能馬虎，要注意一些問題。

使用磁控濺射的真空鍍膜機一般采用的是圓筒主體結構，結構上要保證快速抽空，因氣袋會緩慢的放氣，因此要避免出現(xiàn)隔離孔穴，真空系統(tǒng)上端會加裝磁控濺射槍，為了使真空室和元件有足夠的強度，保證在外部和內部的作用力下不產(chǎn)生形狀的變化，厚度需要足夠。

焊接是真空室制造中的一道關鍵工序，保證焊接之后的真空室不會產(chǎn)生漏氣現(xiàn)象，須合理設計焊接結構，提高焊接質量，處在超高真空的內壁粗糙度要拋光使室外室內表面很光潔，須特別注意的是需做好防止生銹的措施。

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多功能真空鍍膜機

真空鍍膜機工作時，需要先抽真空，使真空室處于真空狀態(tài)，再進行鍍膜；鍍膜完成后，需要向真空室充氣。真空鍍膜機檢漏要承認漏氣究竟的虛漏仍是實漏，因為工件資料加熱后都會在不同程度上發(fā)生氣體，有也許誤以為是從外部流進的氣體，這即是虛漏，要掃除這種狀況?，F(xiàn)有技術中，真空鍍膜機的充氣管道直接與外界連通，容易把外界空氣中的灰塵帶入真空室，導致鏡片上吸附灰塵，造成產(chǎn)品不良真空蒸渡金屬薄膜是在高真空條件下，以電阻、高頻或電子加熱使金屬熔融氣化，在薄膜基材的表面附著而形成復合薄膜，其中被鍍金屬材料用的1多的是鋁，在塑料薄膜或紙張表面鍍上一層極薄的金屬鋁即成為鍍鋁薄或鍍鋁紙，在鍍鋁薄膜生產(chǎn)過程中對于真空條件是有嚴格限定的，真空度過高或過低都會影響鍍膜的性能，目前，工廠里使用的鍍膜機對于真空度的控制并不是很穩(wěn)定，導致生產(chǎn)過程中產(chǎn)品的性能不夠穩(wěn)定，因此，解決生產(chǎn)過程中鍍膜機里的真空度不易控制的問題尤為重要，而且內部鍍膜物件的溫度高，需要及時降溫，提高工作效率。

真空鍍膜機的檢漏方法

真空鍍膜機廠家查看漏氣狀況是確保真空鍍膜機真空度的一項查看辦法，簡稱檢漏，真空度的凹凸是直接影響到鍍膜作用的，所以檢漏是必不可少的。

通常真空室內漏氣都是從室壁上的一些小孔或部件之前的銜接位細縫中發(fā)生，當抽氣系統(tǒng)抽氣后使真空室內壓強降低，外部與內部的壓強差使氣體從壓強高的外部流向壓強低的真空室內，形成真空度降低。

真空鍍膜機廠家介紹在檢漏的過程中，需求注意一些問題，才能把檢漏作業(yè)做好。為真空鍍膜設備做好檢漏作業(yè)是很主要的，形成真空度降低的緣由多種多樣，咱們要逐個的處理這些緣由，安穩(wěn)鍍膜的作用。