未來發(fā)展策略

1、目前實(shí)體經(jīng)濟(jì)走勢整體疲弱，復(fù)蘇充滿不確定性，經(jīng)濟(jì)處于繼續(xù)探底過程，真空鍍膜設(shè)備制造企業(yè)應(yīng)著力進(jìn)行產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)優(yōu)化升級，重質(zhì)量、重服務(wù)明確市場定位，大力研發(fā)擁有自主知識產(chǎn)權(quán)的新產(chǎn)品新工藝，提高產(chǎn)品質(zhì)量和服務(wù)水平。

2、依托信息化發(fā)展趨勢，堅(jiān)持“以信息化帶動工業(yè)化，以工業(yè)化促進(jìn)信息化”，走出一條科技含量高、經(jīng)濟(jì)效益好、資源消耗低、環(huán)境污染少、人力資源優(yōu)勢得到充分發(fā)揮的新型工業(yè)化路子。

3、依托政府支持，大力加強(qiáng)與擁有行業(yè)先進(jìn)技術(shù)和工藝水平的科研院所、大型企業(yè)、高校合作，使得新品能迅速推向市場。

真空鍍膜技術(shù)及設(shè)備擁有十分廣闊的應(yīng)用領(lǐng)域和發(fā)展前景。未來真空鍍膜設(shè)備行業(yè)等制造業(yè)將以信息化融合為，依靠技術(shù)進(jìn)步，更加注重技術(shù)能力積累，制造偏向服務(wù)型，向世界真空鍍膜設(shè)備行業(yè)等制造業(yè)價值鏈挺進(jìn)。

真空鍍膜設(shè)備是制作真空條件應(yīng)用較為廣泛的一種設(shè)備。

根據(jù)加工產(chǎn)品要求的各異，真空腔大小不同，腔體由不銹鋼材料制作，要求不生銹、堅(jiān)實(shí)等，真空腔各部分有連接閥，用來連接各抽氣泵浦。

蒸發(fā)系統(tǒng)主要是指成膜裝置部分，鍍膜機(jī)器的成膜裝置很多，有電阻加熱、電子槍蒸發(fā)、磁控濺射、射頻濺射、離子鍍等多種方式。

一臺完整的真空鍍膜機(jī)是由多部分系統(tǒng)組成的，每個系統(tǒng)可以完成不同的功能。

真空鍍膜設(shè)備的結(jié)構(gòu)和工作原理：真空主體——真空腔，用來連接各抽氣泵浦。成膜控制系統(tǒng)，真空鍍膜機(jī)薄膜監(jiān)控目前應(yīng)用方式比較多，主要有：目視監(jiān)控法，定值監(jiān)控、水晶振蕩監(jiān)控、時間監(jiān)控等等。輔助抽氣系統(tǒng)。蒸發(fā)系統(tǒng)，蒸發(fā)系統(tǒng)主要是指成膜裝置部分。膜厚決定于蒸發(fā)專源的蒸發(fā)速率和時間（或決定于裝料量），并與源和基片的距離有關(guān)。一臺完整的真空鍍膜機(jī)是由多部分系統(tǒng)組成的，每個系統(tǒng)可以完成不同的功能。

真空鍍膜設(shè)備膜層色澤不均：(1)底漆噴涂得不均勻。應(yīng)改進(jìn)底漆的施涂方法。(2)膜層太薄。應(yīng)適當(dāng)提高濺射速度或延長濺射時間。(3)夾具設(shè)計(jì)不合理。應(yīng)改進(jìn)夾具設(shè)計(jì)。(4)鍍件的幾何形狀太復(fù)雜。應(yīng)適當(dāng)提高鍍件的旋轉(zhuǎn)速度。真空鍍膜設(shè)備膜層發(fā)皺、龜裂：(1)底漆噴涂得太厚。應(yīng)控制在7—lOtan厚度范圍內(nèi)。(2)涂料的粘度太高。應(yīng)適當(dāng)降低。真空鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技術(shù)，是表面工程技術(shù)領(lǐng)域的重要組成部分。(3)蒸發(fā)速度太快。應(yīng)適當(dāng)減慢。(4)膜層太厚。應(yīng)適當(dāng)縮短濺射時間。(5)鍍件溫度太高。應(yīng)適當(dāng)縮短對鍍件的加溫時間。