公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

光學(xué)掩模板的應(yīng)用

光掩膜用于芯片制造，主要是IC（集成電路）芯片，還應(yīng)用于制作純平顯示器、薄膜磁頭以及PC板等。

光掩膜所起的作用類似于底片之于相片，光刻通過光掩膜在芯片上顯影。如果圖形通過掩膜版在芯片兩面多次顯影，這種方法就是熟稱的曝光，這個時候的掩膜也可稱為光罩。

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掩膜版：通俗點理解，相當(dāng)于過去用膠片沖洗照片時的底片。底片如果精度不夠，是洗不出來照片的。光刻機施工前，要根據(jù)設(shè)計好的芯片電路圖制作掩膜板。掩膜板材質(zhì)是石英玻璃，玻璃上有金屬鉻和感光膠。通過激光在金屬鉻上繪制電路圖。精度要求非常高。

　　透鏡：用透鏡的光學(xué)原理，將掩膜版上的電路圖按比例縮小，再用光源映射的硅片上。光在多次投射中會產(chǎn)生光學(xué)誤差。要控制這個誤差。精度要求很高。

　　就是測量臺移動的控制器，也是納米級精度，要求超高。

掩模板是根據(jù)放大了的原圖制備的帶有透明窗口的模板。光刻工藝需要一整套（幾塊多至十幾塊）相互間能套準的、具有特定幾何圖形的光復(fù)印掩蔽模版。例如，可以用平整的玻璃板，涂覆上金屬鉻薄膜，通過類似照相制版的方法制備而成。具有微納圖形結(jié)構(gòu)的掩模板通常使用電子束光刻機直接制備，其制作過程就是典型的光刻工藝過程，包括金屬各層沉積、涂膠、電子束光刻、顯影、鉻層腐蝕及去膠等過程。