Kapper卡帕爾高溫口罩設(shè)備專用離子棒——除靜電速度快效果好

高溫口罩設(shè)備專用離子棒是一種排針設(shè)計(jì)形式，其設(shè)計(jì)特別適合于薄片料加工，分切，卷料等場(chǎng)合，需要和5.6KV的高壓發(fā)生器供應(yīng)器配套使用。排針設(shè)計(jì)形式；外殼堅(jiān)固，易安裝，銅質(zhì)材料；風(fēng)力強(qiáng)勁，適用于各種惡劣的工作環(huán)境，各種薄片材料加工制造；反過(guò)來(lái)，電荷分布的改變又會(huì)影響到電場(chǎng)分布（前節(jié)施感導(dǎo)體上的電荷Q之所以偏聚左端就是考慮到這種影響）．。材料分切加工；卷繞加工等各類型加工應(yīng)用場(chǎng)合。

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     紙張一旦帶靜電，就會(huì)給印刷帶來(lái)很多麻煩。首先是在靜電作用下，紙張與紙張之間牢牢吸住，無(wú)法整齊。在印刷過(guò)程中，由于靜電吸引，單張紙之間牢牢地粘貼在一起，有時(shí)兩張，有時(shí)幾張，有時(shí)一沓紙難以分開(kāi)，導(dǎo)致分紙吸嘴吸不起紙張，嚴(yán)重影響印刷效率。塑料材料在進(jìn)行彩印時(shí)，由于靜電放電，經(jīng)常會(huì)發(fā)現(xiàn)印品邊緣出現(xiàn)毛刺狀油墨溢出、套印偏差增加等現(xiàn)象；而操作或維修人員自身也要做好靜電處理，作為電腦操作人員要時(shí)刻牢記靜電的危害，盡量避免觸摸電腦內(nèi)部板卡，如果一定要接觸內(nèi)部線路，也要在手指上加接地環(huán)，以保證有效泄放靜電。油墨產(chǎn)生靜電會(huì)產(chǎn)生淺網(wǎng)或漏印現(xiàn)象；塑料薄膜以及油墨吸附環(huán)境中的粉塵、毛發(fā)等異物易發(fā)生刀絲等質(zhì)量問(wèn)題。在進(jìn)行復(fù)卷、分切、制袋等工藝時(shí)，靜電放電會(huì)破壞設(shè)備的光電糾偏系統(tǒng)、電磁控制系統(tǒng)等。高達(dá)數(shù)萬(wàn)伏的靜電放電極易引燃，發(fā)生火災(zāi)事故。特別是包裝材料因吸附異物會(huì)造成對(duì)所包裝產(chǎn)品的污染；在顧客使用時(shí)降低了自動(dòng)灌裝效率；在包裝粉產(chǎn)品如洗衣粉、藥劑、奶粉時(shí)，由于袋口吸附了粉，封口強(qiáng)度無(wú)法保證。這時(shí)候卡帕爾的除靜電設(shè)備：高溫口罩設(shè)備專用離子棒、離子風(fēng)機(jī)就可以幫助解決上述問(wèn)題。

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網(wǎng)印中因?yàn)?strong>靜電的存在能造成很多質(zhì)量問(wèn)題，甚至使印刷不能繼續(xù)下去，那么網(wǎng)印中的靜電又如何避免和消除呢?

首先從絲網(wǎng)自身的工藝條件來(lái)控制，在網(wǎng)版的高張力下，盡可能的降低網(wǎng)距。網(wǎng)距降低，則刮板的壓力就減少，刮板對(duì)網(wǎng)版的摩擦減少靜電產(chǎn)生的可能性減少。在光盤(pán)的絲印中，為了保證印刷圖紋精度又減少圖紋上出現(xiàn)龜紋和套印文字準(zhǔn)確的同時(shí)避免生產(chǎn)靜電，所以光盤(pán)張力高達(dá)26N/cm，而網(wǎng)距小到1.0mm左右。從目前國(guó)內(nèi)市場(chǎng)來(lái)看，大多數(shù)導(dǎo)電塑料還處于黑顏色的添加型導(dǎo)電塑料。如果網(wǎng)印在以上條件下可能還出現(xiàn)小靜電，此時(shí)可以將刮印速度調(diào)整一下就可能避免。

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適度控制環(huán)境溫濕度，也可以有效遏制靜電的殺傷力。濕度與溫度對(duì)ESD都有影響,在同一個(gè)大氣環(huán)境中，溫度較低的區(qū)域會(huì)比溫度較高的區(qū)域相對(duì)濕度更大，而濕度增加則使非導(dǎo)體材料的表面電導(dǎo)率增加，空氣導(dǎo)電性能增強(qiáng)，物體上積蓄的靜電荷可以更快地泄漏,可見(jiàn)環(huán)境溫度越低，濕度越大，對(duì)靜電的防護(hù)就越有利。因此在工藝條件許可時(shí)，可以使用空調(diào)加濕、風(fēng)扇噴霧器噴射水霧、地面灑水等方法提高空氣的相對(duì)濕度，降低靜電的危害。在進(jìn)行復(fù)卷、分切、制袋等工藝時(shí)，靜電放電會(huì)破壞設(shè)備的光電糾偏系統(tǒng)、電磁控制系統(tǒng)等。當(dāng)然，濕度過(guò)大將導(dǎo)致產(chǎn)品發(fā)生極間短路、漏電等故障，通常應(yīng)將溫度控制在18～28℃范圍，濕度控制于40～65％RH范圍內(nèi)。