PVD鍍膜的具體原理是什么? 

　　離子鍍膜(PVD鍍膜)技術(shù)，其原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)電離，在電場的作用下，使被蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。

真空電鍍工藝則有所不同，真空電鍍是真空罩內(nèi)進行的但這時鍍膜過程是以電荷傳遞的形式來實現(xiàn)的，真空電鍍蒸發(fā)料的粒子作為帶正電荷的高能離子在高壓陰極(即工件)吸引下，真空電鍍以很高的速度注入到工件表面。

 真空鍍膜加工法是在高寬比真空規(guī)范下加溫金屬，使其熔化、蒸發(fā)，制冷后在塑膠表面產(chǎn)生金屬塑料薄膜的方法。常見的金屬是鋁等低溶點金屬。加溫金屬的方法：有運用電阻器形成的動力，也是運用離子束的。

 在對塑料制品實行真空鍍膜加工時，以便保證金屬制冷時需釋放出的發(fā)熱量不使環(huán)氧樹脂形變，必須對蒸鍍時間打開調(diào)理。除此之外，溶點、熔點太高的金屬或鋁合金不適宜蒸鍍。置待鍍金屬和被鍍塑料制品于真空房間內(nèi)，選用一定方法加溫待鍍原材料，使金屬蒸發(fā)或升化，金屬蒸氣碰到冷的塑料制品表面匯集成金屬塑料薄膜。

真空濺射鍍膜：定義：給靶材施加高電壓（形成等離子狀態(tài)），使正荷電氣體離子撞擊靶材、金屬原子飛彈，而在樣品表面形成金屬皮膜的方法。真空濺射鎖膜的優(yōu)缺點：優(yōu)點：對于任何待鎖材料，只有能做成靶材，就能實現(xiàn)濺射。濺射所獲得的薄膜與基片結(jié)合良好。濺射所獲得的薄膜純度高，致密性好。濺射工藝可重復(fù)性好，膜厚可控制，同時司以在大面積基片上獲得厚度均勻的薄膜。