干膜盡可能平整且厚度均勻。要求干膜應(yīng)具有很好的柔韌性、良好的塑性、流動(dòng)性與粘結(jié)性以確保達(dá)到無(wú)間隙貼膜。

顯影要充分。顯影是與下道工序直接相連的重要工序，其質(zhì)量的好與壞是整個(gè)圖形轉(zhuǎn)移成功與否的重要標(biāo)志。

首先是預(yù)處理，蝕刻材料要處理干凈，絲印油墨時(shí)要保證油墨厚度適中，一般在0.12-0.14mm，當(dāng)然看每個(gè)工廠的實(shí)際情況與工藝。接下來(lái)是烘烤油墨，要控制溫度和烘烤速度，一般來(lái)說(shuō)烘烤溫度控制在90℃±5℃。

IMD模內(nèi)注塑工藝，這是從此物錄使用的一種國(guó)際流行的工藝，其實(shí)這種工藝很早就有了，故事就不再講了。但由于成本問(wèn)題真正應(yīng)用到產(chǎn)品設(shè)計(jì)領(lǐng)域并不久，IMD工藝采用模內(nèi)高溫注塑，一個(gè)手機(jī)殼成形需要出模、出片、印刷、蓋白、注塑、熱壓、質(zhì)檢等多個(gè)流程，把畫(huà)面植入殼體中間層，永遠(yuǎn)不會(huì)褪色變黃，殼體拋光，成像立體感強(qiáng)，高清，臟的時(shí)候一擦就干凈了，相對(duì)來(lái)說(shuō)優(yōu)點(diǎn)還是很多的。

曝光顯影工藝就是指利用物質(zhì)這一特點(diǎn)，由高精度紫外平行光源通過(guò)掩膜版對(duì)涂有特定吸收波長(zhǎng)的油墨進(jìn)行紫外光照射，然后通過(guò)化學(xué)去除多余涂層，從而達(dá)到圖形轉(zhuǎn)印的過(guò)程稱(chēng)之為曝光顯影工藝。

曝光顯影技術(shù)優(yōu)勢(shì)：

1、解決3D曲面玻璃(包含四面曲)印刷難題；

2、圖形轉(zhuǎn)印技術(shù)單層、多層套印精度高；

3、霧化噴涂確保厚度均一性，提高致密性，降低油墨厚度；

4、采用圖形轉(zhuǎn)印技術(shù)，良率較高；

5、4-6寸蓋板單制程產(chǎn)能優(yōu)勢(shì)明顯；

6、較薄的油墨利于貼合，提高制程整體良率。

對(duì)于深度要求淺的蝕刻材料的表面狀態(tài)及品粒組織就會(huì)對(duì)深度的均勻性產(chǎn)生影響，同時(shí)如果將蝕刻溶液及物理參數(shù)調(diào)到快的蝕刻速度其均勻性將無(wú)法控。付于蝕刻深度超過(guò)毫米級(jí)的要求其刻速度達(dá)到0.05mm/min時(shí)，在生產(chǎn)中會(huì)覺(jué)得太慢。如果對(duì)蝕刻深度要求在0.035mm時(shí)，其蝕刻速度在0.01mm/mim時(shí)會(huì)覺(jué)得太快。因?yàn)榻饘傥g刻時(shí)并不是所想象的那樣同時(shí)在整個(gè)金屬表面展開(kāi)。