在生產(chǎn)實(shí)踐中，導(dǎo)致顯影不透、不勻的原因主要有以下幾個方面：

①上膠不勻

特闊幅長網(wǎng)，如果復(fù)原不到位，在制網(wǎng)上膠操作時，形成局部上膠不勻；或者圓網(wǎng)在上膠時上膠速度不合理，造成圓網(wǎng)上膠厚薄不勻，這樣在制網(wǎng)、曝光、顯**出現(xiàn)不勻或者不透。

②曝光不勻

特闊幅長網(wǎng)，制網(wǎng)曝光時往往需要分版進(jìn)行曝光，在每版曝光時，曝光燈的往復(fù)行程控制不足，使每版的兩邊曝光程度不足；在版與版之間，由于包片松緊程度不一，也會使曝光程度出現(xiàn)差異，從而導(dǎo)致圓網(wǎng)顯影不勻或者不透。

單聚物為一種低分子量的化學(xué)物質(zhì)，在某種程度上可以替代溶劑，并可使黏度降低，以適于印刷。但除了起溶劑或稀釋劑的作用外，它還有一種非常重要的作用—參與化學(xué)反應(yīng)。UV油墨中的每一組分都能起化學(xué)反應(yīng)，因為它是100%固化，所有組分都將通過化學(xué)反應(yīng)變成固態(tài)。

顯影包括正顯影和反轉(zhuǎn)顯影。正顯影時，顯影色粉所帶電荷的極性，與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性相反。

上膠：有兩種方法：一是用網(wǎng)印法，將不干膠網(wǎng)印到電鑄文字及圖案的背面，待干燥后即可使用；不銹鋼蝕刻也稱光化學(xué)蝕刻，指通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除，在蝕刻時接觸化學(xué)溶液，達(dá)到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。半蝕刻產(chǎn)品深度可控，淺深度可達(dá)0.05mm，直至蝕刻穿。金屬蝕刻就是先在基板上用絲印或網(wǎng)印的方式把基板上需要保護(hù)的部位遮住，然后用化學(xué)或電化學(xué)方式侵蝕掉不需要的部位，退去保護(hù)膜，得到制品的一種加工方式。

使膠輥與鋼輪平行靠緊，并勻速向內(nèi)旋轉(zhuǎn)，油墨從膠管噴至鋼輪上，均勻調(diào)節(jié)膠輥與鋼輥之間的緊密度，就可以控制粘附在膠輥上的油墨厚度與均勻度；鋼片由輸送帶往前勻速推進(jìn)，與膠輥適當(dāng)接觸，膠輥上的油墨就均勻的轉(zhuǎn)印到鋼片表面上。 在蝕刻的防蝕層制作中涂裝技術(shù)應(yīng)用較多，常用的涂裝方法有絲印法、浸涂法、噴涂法、電泳涂裝等。