湖北豐熱科技有限公司（原武漢離子熱處理研究所），專業(yè)制造輝光離子滲氮爐的高新技術(shù)企業(yè)；是集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售安裝輝光離子滲氮爐，并為用戶提供成套的離子滲氮工藝技術(shù)服務(wù)。

與氣體滲氮相比適應(yīng)范圍廣泛。可用于不銹鋼模具的滲氮，利用離子的轟擊作用，可以內(nèi)動(dòng)去除不銹鋼、耐熱鋼模具表面的鈍化膜，可直接進(jìn)行不銹鋼模具的滲氮。

兩種靶電源不同之處：選用(工藝型)雙極矩形波或正弦波中頻靶電源，因其輸出的電壓和電流的占空比可以大范圍連續(xù)調(diào)節(jié)，鍍膜時(shí)電源的工藝參數(shù)適應(yīng)范圍比“經(jīng)濟(jì)型”中頻靶電源要寬很多；在玻璃管兩端各接一平板電極，充入惰性氣體，加數(shù)百伏直流電壓，管內(nèi)便產(chǎn)生輝光放電，其電流為10-4～10-2A。適用于需要經(jīng)常變化的磁控濺射鍍膜工藝和不同材質(zhì)的膜層。?(經(jīng)濟(jì)型)雙極性矩形波或正弦波中頻靶電源的輸出電壓或電流的工藝調(diào)節(jié)范圍偏窄，若相關(guān)參數(shù)選配合適，一般可用于磁控濺射鍍膜工藝相對(duì)固定和單一的工業(yè)生產(chǎn)中，其優(yōu)點(diǎn)是靶電源價(jià)格可以相對(duì)便宜。??

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在陰極附近，二次電子發(fā)射產(chǎn)生的電子在較短距離內(nèi)尚未得到足夠的能使氣體分子電離或激發(fā)的動(dòng)能，所以緊接陰極的區(qū)域不發(fā)光。而在陰極輝區(qū)，電子已獲得足夠的能量碰撞氣體分子，使之電離或激發(fā)發(fā)光。1831~1835年,M.法拉第在研究低氣壓放電時(shí)發(fā)現(xiàn)輝光放電現(xiàn)象和法拉第暗區(qū)。1858年,J.普呂克爾在1/100托下研究輝光放電時(shí)發(fā)現(xiàn)了陰極射線，成為19世紀(jì)末粒子輻射和原子物理研究的先驅(qū)。當(dāng)電壓的頻率增加到中頻時(shí)，起輝點(diǎn)火電壓比用純直流靶電源時(shí)降低很多。

Roth等人用離子捕獲原理解釋APGD，即當(dāng)所用工作電壓頻率高到半個(gè)周期內(nèi)可在極板之間捕獲正離子，又不高到使電子也被1捕獲時(shí)，將在氣體間隙中留下空間電荷，它們影響下半個(gè)周期放電，使所需放電場(chǎng)強(qiáng)明顯降低，有利于產(chǎn)生均勻的APGD。