中頻磁控 多弧離子濺射鍍膜機特點

中頻磁控 多弧離子濺射鍍膜機具有：結(jié)構(gòu)合理、膜層均勻、成膜質(zhì)量好、抽速大、工作周期短、生產(chǎn)、操作方便、能耗低性能穩(wěn)定等優(yōu)點。廣泛應(yīng)用于切削刀具如齒輪滾刀，插刀，銑刀，鉆頭等表面沉積超硬涂層，也可用于鐘表，眼鏡架，手機殼、鎖具，潔具等各類小五金表面沉積裝飾涂層，本設(shè)備可實現(xiàn)一機多用沉積多種膜層，膜層細膩，有純鈦（Ti）氮化鈦（TiN）氧化鈦（TiO）純鋯（Zr）氮化鋯（ZrN）碳化鈦（TiC）純鉻（Cr）氮化鉻（CrN）碳氮化鈦（TiCN）氮化鋁鈦（TiAlN），PVD鍍膜膜層目前常見的顏色主要有：深金黃色，淺金黃色，咖啡色，古銅色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色,藍色等。亮度好，飽滿度好

至成真空科技可以根據(jù)用戶要求設(shè)計各種規(guī)格型號的真空鍍膜機。真空機組及電控系統(tǒng)也可根據(jù)用戶要求進行設(shè)計配置。

真空鍍膜機真空鍍膜機廠家真空鍍膜設(shè)備工藝清洗

真空鍍膜機真空工藝進行前應(yīng)清洗真空材料，從工件或系統(tǒng)材料表面清除污染物；車燈鍍膜機零部件的表面清洗處理也是很有必要的，因為由污染物所造成的氣體、蒸氣源不僅會使真空系統(tǒng)不能獲得所要求的真空度。而且由于污染物的存在，同時也會影響真空部件連接處的強度和密封性能。

真空鍍膜機污染物可以定義為“任何一種無用的物質(zhì)或能量”，多弧離子鍍膜機根據(jù)污染物的物理狀態(tài)可分為固體、氣體及液體，它們以膜或散粒形式存在。就其化學特征來看，它可以處于離子態(tài)或共價態(tài)，可以是無機物或有機物。

真空鍍膜機暴露在空氣中的表面易受到污染，污染的來源有多種，起初的污染通常是表面本身形成過程中的一部分。吸附現(xiàn)象、化學反應(yīng)、浸析和干燥過程、機械處理以及擴散和離析過程都使各種成分的表面污染物增加。

多弧離子真空鍍膜機發(fā)展歷程及特點

20世紀70年代以來，隨著工業(yè)技術(shù)的不斷發(fā)展，對材料的綜合性能要求不斷提高，單一材料性能已經(jīng)不能滿足某些特征環(huán)境下工作機械的性能要求。離子真空鍍膜機鍍膜技術(shù)通過物理作用，使基體表面沉積出薄膜，在美觀的同時又有效提高鍍件的物理化學性能，從而提高產(chǎn)品的使用壽命。離子鍍技術(shù)是當今使用面廣、先進的表面處理技術(shù)之一。據(jù)統(tǒng)計，國內(nèi)外已有近一半以上表面處理使用多弧離子鍍技術(shù)，特別適用于對耐磨性、耐腐蝕性有特殊要求的場合。80年代后期，國內(nèi)外相繼開發(fā)了離化效率更高的電弧放電真空離子鍍、多弧真空離子鍍等，使離子鍍技術(shù)進入了一個新階段.

近年來，離子真空鍍膜機的自動化程度得到了較快發(fā)展，國外的設(shè)備采用智能一體化控制系統(tǒng)，可精準計算和控制鍍膜過程中的基體溫度、氣體流量和靶電流等關(guān)鍵性參數(shù)。國內(nèi)真空離子鍍膜機的自動化程度也有了一定的發(fā)展，但在鍍膜產(chǎn)品穩(wěn)定性和精準性方面尚需提升，設(shè)備依賴進口。同時多弧離子鍍膜機低端產(chǎn)品市場存在供大于求的情況，價格競爭較為激烈。