鍍膜理論

鍍膜控制穿過光學干涉機制的反射光和透射光。當兩個光束沿著同步路徑傳輸及其相位匹配時，波峰值的空間位置也匹配并將結合創(chuàng)建較大的總振幅。當光束為反相位（180°位移）時，其疊加會導致在所有峰值的消減效應，導致結合的振幅降低。這些效應被分別稱為建設性和破壞性的干涉。

光的波長和入射角通常是的，折射率和層厚度則可以有所不同以優(yōu)化性能。上述的任何更改將會影響鍍膜內光線的路徑長度，并將在光透射時改變相位值。這種效應可簡單地通過單層增透膜例子說明。當光傳輸穿過系統(tǒng)時，在鍍膜任一側的兩個接口指數(shù)更改處將出現(xiàn)反射。為了盡量減少反射，我們希望它們在個接口重組時，這兩個反射部分具有180°的相位移。這個相位差異直接對應于aλ/2位移的正弦波，它可通過將層的光學厚度設置為λ/4獲得良好實現(xiàn)。

多層減反增透膜在工藝上一般有以下特點：

（1）一般在鏡頭的片的第二面或第二片上鍍多層減反膜，以增加裝飾效果。多層寬帶減反增透膜以翠綠色較多，比較美觀。

（2）一般在曲率半役較大的表面上鍍多層膜，以便在工藝上使多層膜的膜色保證均勻。

（3）一般在低折射率材料的鏡片上鍍膜。對單層減反膜而言，低折射率基底的減反效果不如高折射率基底的減反效果。而對多層膜而言，多層膜的設計可以在不同折射率基底的材料上實現(xiàn)幾乎相近的減反效果。

（4）根據(jù)經驗，鍍膜面數(shù)在16個左右時，選用2個面鍍多層膜；鍍膜面數(shù)在10個左右時，選用一個面鍍多層膜即可基本滿足技術要求。選用多層減反膜，一般在同牌號的玻璃，或折射率接近的不同基底上實施。這樣可以只設計一種多層膜膜系。更重要的是，從工藝實施上更為方便，從品質保證上更為有利。

真空鍍膜機鍍膜層厚度范圍

真空鍍膜機鍍膜層厚度范圍 真空鍍膜機能夠沉積的鍍膜層厚度范圍為0.01-0.2，可以在這個范圍內選擇，有的還可以鍍多層膜，滿足多種需要。日本專利提出沉積兩種不同鍍膜材料的卷繞式蒸鍍裝置。該裝置的真空室分為上室，左下室和右下室。蒸鍍時，兩組蒸發(fā)源蒸發(fā)的鍍膜材料分別沉積在塑料薄膜上，在塑料薄膜沒有蒸鍍的一側，裝上輝光放電發(fā)生器。發(fā)生器產生的輝光放電氣體能防止塑料薄膜起皺。使用這套裝置可以在極薄的塑料薄膜上鍍上無折皺的多層膜，用于制磁帶和薄膜太陽能電池等。