光學(xué)石英玻璃鏡片

光學(xué)石英玻璃采用光刻和離子交換工藝產(chǎn)生低損耗非線性光波導(dǎo), 可制備小尺寸密集型超快全光速調(diào)制集成光路波導(dǎo)器件,為以超大規(guī)模數(shù)據(jù)傳輸與處理為基礎(chǔ)的信息高速公路通訊網(wǎng)絡(luò)信息的快速處理和容量的提高提供實(shí)用性元件。二、放入光學(xué)玻璃原材料：熔解爐（尤其是黏土爐）通過(guò)長(zhǎng)期的枯燥后，放入依照特殊配方以及通過(guò)選別的原材料于熔解爐中，準(zhǔn)備熔融。非線性光學(xué)材料和器件已成為光子學(xué)微結(jié)構(gòu)和新型。玻璃的密度光學(xué)玻璃的密度是使用者及制造者所必須了解的基本物理性貭之一。此外，在計(jì)算玻璃的分子體積及分子折射度時(shí)也需要密度的數(shù)據(jù)。

影響光學(xué)玻璃清洗的因素有哪些呢？下面具體看看：

A，清洗工藝的技術(shù)關(guān)鍵：光學(xué)玻璃經(jīng)過(guò)清洗后能否達(dá)到表面不留任何油污，污跡，表面光滑，水膜完好！

B，影響清洗后光學(xué)玻璃質(zhì)量的因素及相應(yīng)的解決方法：

（1）玻璃本身的質(zhì)量螺旋送料機(jī)及被污染的情況，主要為：表面有霉點(diǎn)，氣泡，劃傷等，在機(jī)械處理中，如：研磨，搽試，測(cè)應(yīng)力時(shí)，人為導(dǎo)致的污染情況不一；

（2）清洗劑的選擇其能動(dòng)及溫度，水質(zhì)；我們采用非ODS的水類堿性清洗劑，主要由 水，堿，表面活性劑，防銹材料組成，化學(xué)式C3H8，具有側(cè)鏈的環(huán)狀烯烴，具有較強(qiáng)的 溶油能力；特點(diǎn)：低毒，不燃，清洗成本低等特點(diǎn)；

（3）溶液的濃度直接影響清洗度的大??； 通常清洗液的PH值一般在8.5-12之間，若PH值大于箱式變壓站10，側(cè)表面活性物質(zhì)作用要削弱，當(dāng)PH 值大于12時(shí)，側(cè)清潔度下降。

（4）溶液溫度及浸泡時(shí)間也同高溫循環(huán)風(fēng)機(jī)樣影響去污效率； 當(dāng)溫度上升，溶液的反應(yīng)速度也上升，污染物的粘度下降，便于污染物脫離，但溶液的穩(wěn)定 度下降。若溫度過(guò)高，會(huì)在玻璃邊角上產(chǎn)生花紋。

（5）在清洗過(guò)程中，還應(yīng)注意必須使用純水或去離子水，若使用自來(lái)水等硬水側(cè)很難除去玻璃上的油污，且水中所含的Ca,Na離子等雜質(zhì)會(huì)在烘干后的玻璃表面形成一層白色霧狀膜，污染玻璃；

（6）光學(xué)玻璃經(jīng)清洗后需漂洗，漂洗后的清潔度，除與清潔劑的漂洗性和清洗液中的清潔劑濃度有關(guān)外，還與漂洗工序的多少，漂洗供水量的大小，溫度及循環(huán)使用的純水是否干凈有關(guān)；

（7）清洗環(huán)境的清潔程度；

（8）清洗后的干燥工藝及溫度： 應(yīng)盡量保證玻璃垂直，可在玻璃下墊陶瓷柱，避免烘干后玻璃下沿有水??；烘箱溫度控制在70度左右，時(shí)間在20分鐘左右。若溫度過(guò)高，會(huì)在玻璃邊角上產(chǎn)生花紋。

由于電子信息產(chǎn)業(yè)中涉及的半導(dǎo)體和光纖生產(chǎn)工藝，石英玻璃消耗大量石英板，環(huán)，板，法蘭，溝槽船，擴(kuò)散爐管，清洗槽，大尺寸石英坩堝，纖維光學(xué)套管，保持棒等石英材料，對(duì)國(guó)內(nèi)天然高純石英材料的需求和技術(shù)提出了新的要求，為石英玻璃材料和制品行業(yè)帶來(lái)了巨大的發(fā)展，肯定會(huì)推動(dòng)石英玻璃材料和制品業(yè)的發(fā)展。3、每季度需定時(shí)檢查通氣管道、氣閥、燈頭等設(shè)備零部件的安全狀況。質(zhì)量和數(shù)量穩(wěn)步增長(zhǎng)。據(jù)稱，全球電子信息產(chǎn)業(yè)正在發(fā)展中。作為電子信息的基礎(chǔ)材料，石英材料將在未來(lái)5 - 10年內(nèi)迎來(lái)新的高潮。石英材料在高科技產(chǎn)業(yè)中將逐漸變得越來(lái)越重要。支持材料。