公司產品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據客戶的構想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質量掩膜版以及后期的代加工服務！

掩膜（MASK）：全稱單片機掩膜，是指程序數據已經做成光刻版，在單片機生產的過程中把程序做進去。優(yōu)點是：程序可靠、成本低。缺點：批量要求大，每次修改程序就需要重新做光刻板，不同程序不能同時生產，供貨周期長。

掩膜板是光刻圖形的基準和藍本，掩膜板上:的任何缺陷都會對終圖形精度產生嚴重的影響。所以掩膜板必須保持“完關”。

使用掩膜板存在許多損傷來源:掩膜板掉鉻:表面擦傷，需要輕拿輕放:靜電放電(ESD)，在掩膜板夾子.上需要連一根導線到金屬桌面，將產生的靜電導出。光罩是光刻工藝中的一個重要環(huán)節(jié)，光刻版必須非常潔凈，所有硅片上的電路元件都來自版圖。另外，不能用手觸摸掩膜板:灰塵顆粒，在掩膜板盒打開的情況下，不準進出掩膜板室(Mask Room)，在存取掩膜板時室內保持2人。

隨著沖版量的不斷增加和空氣中的CO2不斷溶入，顯影液中的OH-濃度會下降，pH值將越來越低，顯影時間應慢慢變長，至后在正常曝光條件下PS版無法顯影，這就是顯影液疲勞的現象。但隨著顯影液pH值的降低，堿液對氧化層和涂層樹脂的腐蝕力下降，版材的網點再現性及耐印力比用新配制的顯影液好一些。光罩（英文：Reticle,Mask），在制作IC的過程中，利用光蝕刻技術，在半導體上形成圖型，為將圖型於晶圓上，必須透過光罩作用的原理，類似于沖洗照片時，利用底片將影像至相片上。但必須注意兩點，一是沖版量必須控制在顯影液容許范圍內；