UV-PLUS專(zhuān)利光學(xué)系統(tǒng)：SPECTROLAB的光學(xué)系統(tǒng)集合了兩種檢測(cè)器的優(yōu)勢(shì)：光電倍增管和CCD檢測(cè)器。采用了優(yōu)化的帕邢——龍格架構(gòu)，專(zhuān)利光學(xué)系統(tǒng)的機(jī)械結(jié)構(gòu)異常堅(jiān)固，同時(shí)減少了內(nèi)部空間體積。內(nèi)部恒溫、恒壓確保光學(xué)系統(tǒng)不受外界環(huán)境變化和影響。UV-PLUS專(zhuān)利技術(shù)用于保障遠(yuǎn)紫外光譜范圍的測(cè)量。密封光室內(nèi)部在儀器出廠前充入高純氣，保證遠(yuǎn)紫外光譜的透過(guò)率。光室內(nèi)的氣由分子薄膜泵驅(qū)動(dòng)循環(huán)至凈化裝置，以保證內(nèi)部氣的高純度。

火花臺(tái)：火花臺(tái)內(nèi)部體積進(jìn)一步縮小，優(yōu)化氣流向設(shè)計(jì)使得氣消耗更低，同時(shí)有效移除殘留粉塵。尾氣經(jīng)兩級(jí)過(guò)濾系統(tǒng)排出?；鸹ㄅ_(tái)工作維護(hù)量極低。壓桿可以左右移動(dòng)，接駁安全電路?？梢钥焖俑鼡Q樣品。

適用分析大尺寸異型樣品。特殊設(shè)計(jì)的樣品夾可用于分析棒材、線材和薄片。小樣品專(zhuān)用分析程序提高了 分析精度和準(zhǔn)確性。

基于用戶(hù)的分析需求，儀器可以定制成十種標(biāo)準(zhǔn)基體的任意組合。

直讀光譜儀儀器的校準(zhǔn)應(yīng)先由硬件開(kāi)始，然后才是軟件。直讀光譜儀的校準(zhǔn)手段如下:描跡是對(duì)光譜儀的光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行的校準(zhǔn)。這是校準(zhǔn)的首要前提。

在此條件下可進(jìn)行如下校準(zhǔn):標(biāo)準(zhǔn)化即再校準(zhǔn)工作曲線，然后可用到的校準(zhǔn)方法有:(1)、修改持久工作曲線法(修改標(biāo)準(zhǔn)化參數(shù))(2)、控樣法;(3)、類(lèi)型標(biāo)準(zhǔn)化法。(1)機(jī)械校準(zhǔn)(2)光學(xué)校準(zhǔn)(3)電氣校準(zhǔn)(4)軟件校準(zhǔn)我覺(jué)得校準(zhǔn)應(yīng)該是包括硬件校準(zhǔn)和軟件校準(zhǔn)。

直讀光譜儀直讀光譜儀器硬件包括狹縫校準(zhǔn)、入射窗口清潔、負(fù)高壓系統(tǒng)、光電轉(zhuǎn)換等。這是儀器正常工作的先覺(jué)條件。軟件包括:完全標(biāo)準(zhǔn)化，類(lèi)型標(biāo)準(zhǔn)化(控樣校準(zhǔn))等。完全標(biāo)準(zhǔn)化是用于校正儀器的漂移而引起的工作曲線的變化。而控樣校準(zhǔn)可以修正樣品冶煉方式與工作曲線(即與做工作曲線的標(biāo)樣的冶煉方式的差異)。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制

在直讀光譜儀上進(jìn)行分析的樣品均要求為塊狀固體。制備塊狀鋁箔樣品，途徑一是將樣品高溫加熱至熔融，然后冷卻使其凝結(jié)成塊狀；其二是通過(guò)機(jī)械外力作用把鋁箔壓制成結(jié)實(shí)的塊狀。前者對(duì)于分析一些易揮發(fā)性元素（As,Sn等）不利；此外，如果鋁箔樣品表面經(jīng)過(guò)鈍化等工藝處理，難于融結(jié)。

用第二種方法制備樣品，并以激發(fā)時(shí)收集到的基體元素Al的光強(qiáng)來(lái)比較各種制樣方法的差異。結(jié)果表明，由機(jī)械壓樣機(jī)破碎樣壓制制備的鋁箔樣品可勝任在直讀光譜儀上進(jìn)行快速分析，測(cè)定的結(jié)果與化學(xué)方法相一致，適合于日常檢驗(yàn)樣品量繁重的工廠、實(shí)驗(yàn)室、品質(zhì)檢驗(yàn)部門(mén)之樣品的制備及檢測(cè)。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制