一、鍍膜技術(shù)可區(qū)分為哪幾類(lèi)?可區(qū)分為：(1)真空蒸鍍(2)電鍍(3)化學(xué)反應(yīng)(4)熱處理(5)物理或機(jī)械處理二、蒸鍍的加熱方式包括哪幾種?各具有何特點(diǎn)?加熱方式分為：(1)電阻加熱(2)感應(yīng)加熱(3)電子束加熱(4)雷射加熱(5)電弧加熱各具有的特點(diǎn)：(1)電阻加熱：這是一種zui簡(jiǎn)單的加熱方法，設(shè)備便宜、操作容易是其優(yōu)點(diǎn)。(2)感應(yīng)加熱：加熱效率佳，升溫快速，并可加熱大容量。(3)電子束加熱：這種加熱方法是把數(shù)千eV之高能量電子，經(jīng)磁場(chǎng)聚焦，直接撞擊蒸發(fā)物加熱，溫度可以高達(dá)30000C。

而它的電子的來(lái)源有二：高溫金屬產(chǎn)生的熱電子，另一種電子的來(lái)源為中空陰極放電。(4)雷射加熱：激光束可經(jīng)由光學(xué)聚焦在蒸鍍?cè)瓷?，產(chǎn)生局部瞬間高溫使其逃離。zui早使用的是脈沖紅寶雷射，而后發(fā)展出紫外線準(zhǔn)分子雷射。紫外線的優(yōu)點(diǎn)是每一光子的能量遠(yuǎn)比紅外線高，因此準(zhǔn)分子雷射的功率密度甚高，用以加熱蒸鍍的功能和電子束類(lèi)似。常被用來(lái)披覆成份復(fù)雜的化合物，鍍膜的品質(zhì)甚佳.它和電子束加熱或?yàn)R射的過(guò)程有基本上的差異，準(zhǔn)分子雷射脫離的是微細(xì)的顆粒，后者則是以分子形式脫離。(5)電弧加熱：陰極電弧沉積的優(yōu)點(diǎn)為：①蒸鍍速率快，可達(dá)每秒1.0微米；②基板不須加熱；③可鍍高溫金屬及陶瓷化合物；④鍍膜密高且附著力佳。

單獨(dú)或混合使用酸溶液、陽(yáng)極溶解(電解)等進(jìn)行除銹，使用磷酸鹽處理、鉻酸鹽處理、發(fā)黑、陽(yáng)極氧化等使金屬表面生成一層保護(hù)膜，均屬于此種方法。這種方法能夠達(dá)到復(fù)雜的花紋效果，打造復(fù)古或是現(xiàn)代的設(shè)計(jì)需求。4.鏡面處理不銹鋼的鏡面處理，簡(jiǎn)單來(lái)講就是對(duì)不銹鋼表面進(jìn)行拋光，拋光手法分為物理拋光和化學(xué)拋光。也可以在不銹鋼表面進(jìn)行局部拋光，拋光的等級(jí)分為普通拋光，普通6K，精磨8K，chao強(qiáng)精磨10K效果。鏡面給人以gao檔簡(jiǎn)約，時(shí)尚未來(lái)的感覺(jué)。

但由于金屬離化過(guò)程非常激烈，會(huì)產(chǎn)生較多的有害雜質(zhì)顆粒，涂層表面較為粗糙。②磁控離子濺射（SPUTTERING）：真空磁控離子濺射過(guò)程中，ya離子被被加速打在加有負(fù)電壓的陰極（靶材）上。離子與陰極的碰撞使得靶材被濺射出帶有平均能量4-6eV的金屬離子。這些金屬離子沉積在放于靶前方的被鍍工件上，形成涂層薄膜。由于金屬離子能量較低，涂層的結(jié)合力與硬度也相應(yīng)較真空陰極弧物理蒸發(fā)方式差一些，但由于其表面質(zhì)量?jī)?yōu)異被廣泛應(yīng)用于有表面功能性和裝飾性的涂層領(lǐng)域中。