低輻射鍍膜玻璃又稱低輻射玻璃、“Low-E”玻璃，是一種對波長范圍4.5~25μm的遠紅外線有較高反射比的鍍膜玻璃（高透型Low-E）。低輻射鍍膜玻璃還能夠復合陽光操控功用，稱為陽光操控低輻射玻璃（遮陽型Low-E）。

低輻射鍍膜玻璃（高透型Low-E）適用于高緯寒區(qū)域，夏熱冬冷區(qū)域宜選用陽光操控低輻射鍍膜玻璃（遮陽型Low-E）。

真空鍍膜技術(shù)一般分為兩大類，即物理氣相堆積（PVD）技術(shù)和化學氣相堆積（CVD）技術(shù)。

物理氣相堆積技術(shù)是指在真空條件下，運用各種物理方法，將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子，直接堆積到基體表面上的方法。制備硬質(zhì)反應(yīng)膜大多以物理氣相堆積方法制得，它運用某種物理進程，如物質(zhì)的熱蒸騰，或遭到離子轟擊時物質(zhì)表面原子的濺射等現(xiàn)象，實現(xiàn)物質(zhì)原子從源物質(zhì)到薄膜的可控搬運進程。

辨別一家好的真空鍍膜加工廠，可以大概從如下幾個方面加以衡量

1.車間環(huán)境

是否具有三級凈化供風系統(tǒng)，是否真的無塵車間，人員進出及貨物進出是否嚴格管制走風淋門，風淋門是否能正常工作、車間地板、墻壁、天花、貨架上是否潔凈無灰塵，現(xiàn)場5S是否整潔；

2.人員穿著

所有人員進出車間是否穿著防靜電無塵衣帽、靜電無塵鞋；

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學研究和實際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。