以稀土拋光粉中CeO2量來劃分：

　　稀土拋光粉的主要成分是CeO2,據(jù)其CeO2量的高低可將拋光粉分為兩大類：一類是CeO2含量高的價(jià)高質(zhì)優(yōu)的高拋光粉，一般CeO2/TREO≥80%,另一類是CeO2含量低的廉價(jià)的低拋光粉，其含量在50%左右，或者低于50%,其余由La2O3,Nd2O3,Pr6O11組成。

稀土拋光粉的粒度及粒度分布對拋光粉性能有重要影響。

　　對于一定組分和加工工藝的拋光粉，平均顆粒尺寸越大，則玻璃磨削速度和表面粗糙度越大。在大多數(shù)情況下，顆粒尺寸約為4μm的拋光粉磨削速度。相反地，如果拋光粉顆粒平均粒度較小，則磨削量減少，磨削速度降低，玻璃表面平整度提高，標(biāo)準(zhǔn)拋光粉一般有較窄的粒度分布，太細(xì)和太粗的顆粒很少，無大顆粒的拋光粉能拋光出高質(zhì)量的表面，而細(xì)顆粒少的拋光粉能提高磨削速度。

此外，稀土拋光粉也可以根據(jù)其添加劑的不同種類來劃分，稀土拋光粉生產(chǎn)技術(shù)屬于微粉工程技術(shù)，稀土拋光粉屬于超細(xì)粉體，國際上一般將超細(xì)粉體分3種：納米級（1nm~100nm）；亞微米級（100nm~1μm）；微米級（1μm~100μm），據(jù)此分類方法，稀土拋光粉可以分為：納米級稀土拋光粉、亞微米級稀土拋光粉及微米級稀土拋光粉3類，通常我們使用的稀土拋光粉一般為微米級，其粒度分布在1μm~10μm之間，稀土拋光粉根據(jù)其物理化學(xué)性質(zhì)一般使用在玻璃拋光的后工序，進(jìn)行精磨




在稀土拋光粉的消費(fèi)中，日本是消費(fèi)者，每年約生產(chǎn)3550噸~4000噸拋光粉，產(chǎn)值35億~40億日元，還從法國、美國和中國進(jìn)口部分拋光粉。其中拋光粉消費(fèi)市場是彩電陰極射線管。二十世紀(jì)90年代中期，日本陰極射線管的生產(chǎn)轉(zhuǎn)向海外，而平面顯示產(chǎn)品產(chǎn)量迅速增加，對基拋光粉的需求量也迅速增加。估計(jì)日本在液晶顯示用平面顯示器生產(chǎn)上消費(fèi)的拋光粉約占其市場的50%.90年代以來，日本將其陰極射線管用拋光粉的生產(chǎn)技術(shù)和設(shè)備向海外轉(zhuǎn)移，如：日本清美化學(xué)從1989年開始在海外生產(chǎn)陰極射線管用基拋光粉。