PVD是物理氣相沉積技術(shù)的簡稱，是指在真空條件下，采用物理的方法將材料（俗稱靶材或膜料）氣化成氣態(tài)分子、原子或離子，并將其沉積在工件形成具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)，常見的PVD沉積技術(shù)有：蒸發(fā)技術(shù)、濺射技術(shù)、電弧技術(shù)。

目前,提高NbFeB永磁材料耐腐蝕性能的方法有添加合金元素和外加防護(hù)性鍍層,但主要以添加防護(hù)性鍍層(金屬鍍層、有機物鍍層和復(fù)合鍍層)為主。由于輻射傳熱與溫度的4次方成比例，所以在850℃以下輻射效果不高，工件加熱速度很慢。防護(hù)性鍍層可以阻礙腐蝕相與基體之間的相互接觸從而減緩磁體的腐蝕。添加鍍層的方法有電鍍、化學(xué)鍍、物理氣相沉積等。

真空鍍膜設(shè)備如何操作？

真空鍍膜設(shè)備操作程序具體操作時請參照該設(shè)備說明書和真空鍍膜機上儀表盤指針顯示及各旋鈕下的標(biāo)注說明。

檢查真空鍍膜設(shè)備各操作控制開關(guān)是否在'關(guān)'位置。打開總電源開關(guān)，真空鍍膜設(shè)備送電。

低壓閥拉出。開充氣閥，聽不到氣流聲后，啟動升鐘罩閥，鐘罩升起。

把薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位，保證無任何雜質(zhì)污物。

啟動真空鍍膜設(shè)備抽真空機械泵。

如何正確使用真空鍍膜設(shè)備。

機床的正常進(jìn)行運行的情況下，啟動機器，要先打開水管，應(yīng)始終注意提高工作水壓力。

同時離子轟擊和蒸發(fā)時，應(yīng)特別注意高壓電線接頭，不能接觸，防止觸電。涂層中的電子槍，鋁的外鐘。建議用鉛玻璃觀察窗玻璃，應(yīng)戴眼鏡觀察鉛玻璃，防止射線照射人體。多層介質(zhì)膜涂層的沉積應(yīng)配備通風(fēng)除塵設(shè)備，及時清除有害粉塵。